专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种发动机气门阀座-CN201610163148.6在审
  • 蔡建斌 - 蔡建斌
  • 2016-03-19 - 2016-07-20 - B22F5/00
  • 一种发动机气门阀座,首先按照上述比例称取镍粉,Ti粉,Si粉,碳化钨,Al粉,Co粉,氧化钴,Zn粉,碳化,氧化铪,钼原料粉末并混合烧制,本发明发动机气门阀座使用了镍粉,Ti粉,Si粉,碳化钨,Al粉,Co粉,氧化钴,Zn粉,碳化,氧化铪,钼原料粉末,该原料成分通过压制烧结提高了产品的强度;2)通过粉末混合,压制烧结,退火,淬火,回火等工序使制造流程集约,降低了生产成本。
  • 一种发动机门阀
  • [发明专利]一种制作磁性随机存储器反应离子束刻蚀硬掩膜的方法-CN201610283967.4在审
  • 张云森 - 上海磁宇信息科技有限公司
  • 2016-04-29 - 2017-11-07 - H01L21/311
  • 本发明提供了一种制作磁性随机存储器反应离子束刻蚀硬掩膜的方法,包括如下步骤(1)提供包括磁性隧道结多层膜的衬底;(2)在衬底上依次形成膜层和化合物膜层;(3)图形转移磁性隧道结图案到化合物膜层,使用光刻胶和有机抗反射层完成对磁性隧道结图案的图形定义;(4)采用CF4干刻蚀化合物膜层;(5)采用Cl2/Ar混合气体或者CH4/Ar混合气体干刻蚀膜层;(6)除去残留的光刻胶和有机抗反射层。本发明中,化合物的选择比高达5以上,是现有技术的10倍,有效改善了膜层刻蚀过后的图案和轮廓,消除了膜层在磁性隧道结刻蚀之前的消耗,降低了磁性随机存储器电路位线和磁性隧道结单元短路的风险。
  • 一种制作磁性随机存储器反应离子束刻蚀硬掩膜方法
  • [发明专利]一种合金溅射靶材及其制备方法-CN201911167255.6在审
  • 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;马国成 - 宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 2019-11-25 - 2020-04-03 - C23C14/34
  • 本发明涉及一种合金溅射靶材及其制备方法。所述制备方法包括:(1)将粉和粉混合;(2)装入模具并封口;(3)对封口后的模具进行冷等静压处理,得到坯料;(4)将得到的坯料进行脱气处理;(5)在1050‑1350℃下对脱气后的包套进行热等静压处理,得到合金溅射靶材粗品;(6)经机加工得到合金溅射靶材。所述制备方法不仅有效防止了粉氧化,保证了产品纯度,还可使制备得到的合金溅射靶材达到99%以上的致密度,满足了合金溅射靶材致密度和内部组织结构均匀的要求,为后续溅射使用提供更优良的性能保障,而且具有工艺简单
  • 一种合金溅射及其制备方法

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