[发明专利]发光装置、半导体结构体、薄膜层制造方法和发光装置制造方法在审

专利信息
申请号: 202210942482.7 申请日: 2022-08-08
公开(公告)号: CN115732530A 公开(公告)日: 2023-03-03
发明(设计)人: 石川琢磨;铃木贵人;谷川兼一;古田裕典;小酒达;中井佑亮;十文字伸哉;松尾元一郎;高桥千优;川田宽人;篠原悠贵;饭野皓宏 申请(专利权)人: 冲电气工业株式会社
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/38;H01L33/62
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 马建军;邓毅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发光装置、半导体结构体、薄膜层制造方法和发光装置制造方法。实现高画质化。LED显示器装置设置:第1薄膜层(20R),其配置有薄膜LED(30R);第2薄膜层(20G),其层叠于第1薄膜层,包含被配置成在从与薄膜LED(30R)的发光面垂直的发光方向(De)观察时与薄膜LED(30R)的至少一部分重叠的薄膜LED(30G);以及电路基板(10),其层叠有第1薄膜层,对薄膜LED(30R)和薄膜LED(30G)的发光进行控制,第1薄膜层在发光方向上从与第2薄膜层对置的第1薄膜层上表面到与电路基板对置的第1薄膜层下表面形成有第1薄膜层开口,薄膜LED(30G)和电路基板经由第1薄膜层开口电导通。
搜索关键词: 发光 装置 半导体 结构 薄膜 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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