[发明专利]一种等离子光栅脉冲激光沉积镀膜方法在审
| 申请号： | 202210851047.3 | 申请日： | 2022-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN115181942A | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 曾和平;胡梦云;施沈城;乔蔚 | 申请（专利权）人： | 重庆华谱科学仪器有限公司;上海朗研光电科技有限公司;云南华谱量子材料有限公司;重庆华谱量子科技有限公司;华东师范大学;华东师范大学重庆研究院 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/54 |
| 代理公司： | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人： | 陈雍 |
| 地址： | 401120 重庆*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明涉及镀膜技术领域，公开了一种等离子光栅脉冲激光沉积镀膜方法，包括如下步骤；步骤一、将基片和靶材料置于真空腔内；步骤二、打开飞秒激光器产生飞秒脉冲激光，飞秒脉冲激光经过分束模块分束后，形成多束飞秒脉冲激光；步骤三、其中一束作飞秒脉冲激光作为预脉冲经过聚焦之后进入真空腔，对靶材料进行激发形成等离子体；步骤四、余下的多束飞秒脉冲激光作为后脉冲经过延时同步模块调整同步后，聚焦形成光丝，在预脉冲激发形成的等离子体中形成等离子体光栅；步骤五、形成的等离子体光栅对靶材料进行二次激发形成等离子体，等离子体达到基片后进行沉积形成膜结构。本发明改善了脉冲激光沉积技术的多个缺点，提高了生产效率和薄膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 光栅 脉冲 激光 沉积 镀膜 方法 | ||
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- 本实用新型涉及一种用于脉冲激光沉积系统中的防撞靶台结构，包括依次布置的靶托、自转固定环、自转轴承基座和自转齿轮，靶托底部的插杆插置于自转固定环的自紧孔中，自转固定环底部的自转轴穿过自转轴承基座与自转齿轮相接，所述的自转轴承基座的前后两端设置轴承，两端轴承之间设置防护弹簧，自转轴的自由端插置于自转齿轮中与自转齿轮固接；自转固定环的自转轴前端与自转轴承基座之间具有间距，自转固定环的自转轴后端与自转齿轮间具有间距。
- 激光沉积镀膜设备-202223294780.4
- 李炳坤;张晓军;夏慧 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
- 2022-12-08 - 2023-05-19 - C23C14/28
- 本实用新型公开了一种激光沉积镀膜设备，该激光沉积镀膜设备包括：壳体，壳体内形成有镀膜腔，壳体上设置有分别与镀膜腔连通的第一视窗部以及第二视窗部，第一视窗部以及第二视窗部隔着镀膜腔对置；激光器，设置在镀膜腔的外部，并经由第一视窗部朝向镀膜腔的内部发射激光束；靶座，设置在镀膜腔的镀膜区域内，可沿朝向与其对置的基台靠近或者远离的方向被驱动，在靶座沿靠近基台的方向被驱动时，从激光器发射的激光束可照射到位于靶座上的靶材上，在靶座沿远离基台的方向被驱动时，从激光器发射的激光束可穿过第二视窗部并到达放置在第二视窗部的外侧的能量计。本实用新型的激光沉积镀膜设备能够更加容易地检测激光的能量，并且结构简单。
- 一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置-202223251768.5
- 唐睿;王静辉 - 杰莱特（苏州）精密仪器有限公司
- 2022-12-05 - 2023-05-16 - C23C14/28
- 本实用新型公开了一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，涉及真空镀膜设备技术领域，包括栅格式离子源装置主体，所述栅格式离子源装置主体的正面固定安装有控制面板，所述栅格式离子源装置主体的上端固定安装有支撑架，且支撑架的上端固定安装有第一支撑横板，所述栅格式离子源装置主体的右端固定安装有出料阀口，所述栅格式离子源装置主体的下端固定安装有支撑腿。本实用新型通过第二支撑横板和密封橡胶元件的设置，可以在上下移动的过程中对内壁进行清理，从而方便下次的使用，另外在镀膜的过程中对镀膜的物料起到支撑的作用，根据伸缩杆、弹簧元件和支撑底座的设置，可以在使用的过程中对第二支撑横板起到支撑的作用，方便对内部的物件进行镀膜。
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