[发明专利]一种印制电路电镀填孔面铜厚度控制方法有效

专利信息
申请号: 202210323016.0 申请日: 2022-03-29
公开(公告)号: CN114561675B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 王翀;陈超;何为;陈苑明;王守绪;周国云;张伟华;罗毓瑶;叶依林 申请(专利权)人: 电子科技大学;珠海方正科技高密电子有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D5/02;C23C18/40;C23F1/30;C25D5/34;H05K3/42
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 吴姗霖
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种印制电路电镀填孔面铜厚度控制方法,属于印制电路板技术领域。包括以下步骤:采用电镀或化学镀方法在基础板材上沉积导电缓冲层;形成通孔;在钝化液中浸泡,以在导电缓冲层上形成钝化层;在钝化层上闪镀一层铜层;采用化学沉铜工艺在通孔的孔壁上沉积铜层;进行通孔填铜电镀;对钝化层上的铜层进行蚀刻,直至蚀刻到导电缓冲层时停止;在导电缓冲层蚀刻液中浸泡,以去除导电缓冲层;去除蚀刻后残留的通孔孔口处的铜柱,得到光滑平整的铜层。本发明采用减铜工艺得到了平整且孔口无凹陷的面铜,工艺简单,可靠性高,可实现大规模产业化,为5G时代下更高频率要求的电路板制作提供了一种有效的方法。
搜索关键词: 一种 印制电路 电镀 填孔面铜 厚度 控制 方法
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