[发明专利]形成沉积在元素金属膜上的含钼膜的方法在审
| 申请号： | 202180035956.3 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN115667575A | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 刘国;雅各布·伍德拉夫;让-塞巴斯蒂安·莱恩 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/08 | 分类号： | C23C16/08;C23C16/14;C23C16/16;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 徐爱文;张奎燕 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了形成含钼膜的方法。该方法包括例如在小于或等于约400℃的第一温度下在基材表面上热沉积第一膜，以及例如在大于约400℃的第二温度下在该第一膜的至少一部分上热沉积该含钼膜(第二膜)。该第一膜可以包含元素金属，例如钨、钼、钌、或钴。该第二膜包含含钼前体和还原剂的反应产物。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 沉积 元素 金属膜 含钼膜 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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