[发明专利]封装结构及封装结构的形成方法在审

专利信息
申请号: 202111370112.2 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN114038814A 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 刘在福;曾昭孔;郭瑞亮 申请(专利权)人: 苏州通富超威半导体有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L21/56;H01L23/29;H01L23/535
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 朱得菊;唐嘉
地址: 215021 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种封装结构及其形成方法,结构包括:基板;固定于基板上的晶片,所述晶片包括相对的功能面和非功能面,所述晶片的非功能面固定于基板表面,所述晶片的面积小于所述基板的面积;位于基板上的第一钝化层,所述第一钝化层还位于晶片的顶部表面和侧壁表面;位于第一钝化层上和晶片上的再布线层,所述再布线层与晶片电连接;位于再布线层上的焊接层,所述焊接层与晶片上的再布线层电连接。所述封装结构的翘曲度得到改善。
搜索关键词: 封装 结构 形成 方法
【主权项】:
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