[发明专利]一种碳化硅外延生长装置在审

专利信息
申请号: 202111350762.0 申请日: 2021-11-15
公开(公告)号: CN114150381A 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 蒲勇;赵鹏;卢勇;施建新 申请(专利权)人: 芯三代半导体科技(苏州)有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B25/14;C30B25/16
代理公司: 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 代理人: 唐学青
地址: 215000 江苏省苏州市中国(江苏)*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开一种碳化硅外延生长装置。该外延生长装置包括:气体供给系统,该气体供给系统包括:前端模块及后端模块,前端模块用以接入反应气体,前端模块的输出连接后端模块,后端模块的气路都配置有匹配对应至少一种反应气体类型的分支流路,每个分支流路的流路的数量与多腔室喷淋头装置的进气腔n的数量相等,每个气路分支都设置一个压力控制器和n‑1个流量控制器,后端模块用以调整引入多腔室喷淋头装置前的反应气体、载气或保护气体。该气体供给系统中气路分支的流量由n‑1个MFC来设置决定,安装PC这一路的气体流量等于分支前部进气总流量减去安装MFC的分支的总流量,这样的好处在于不会产生进口流量跟出口流量总数不符的问题。
搜索关键词: 一种 碳化硅 外延 生长 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芯三代半导体科技(苏州)有限公司,未经芯三代半导体科技(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111350762.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top