[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 202110899897.6 | 申请日: | 2021-08-06 |
公开(公告)号: | CN115132707A | 公开(公告)日: | 2022-09-30 |
发明(设计)人: | 新井健太郎;石森敏文;矢动丸裕;高桥正好 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
主分类号: | H01L23/62 | 分类号: | H01L23/62;H02H3/08 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 房永峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种能够反复使用并且能够抑制周围的设备的破损的半导体装置。实施方式的半导体装置具备第一电路、第一端子、第二端子、将上述第一端子与上述第二端子之间串联连接的导电体、以及第一开关元件。上述第一电路构成为在满足第一条件的情况下使上述第一开关元件为断开状态。上述导电体构成为在满足第二条件的情况下被物理切断。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社,未经株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110899897.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:活性多肽及其用途
- 下一篇:PCSK9抑制剂在制备预防和治疗疤痕产品中的应用