[发明专利]半导体存储装置及半导体存储装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202110632543.5 申请日: 2021-06-07
公开(公告)号: CN115050747A 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: 鹿嶋孝之 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11582
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 王程
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供具有高可靠性的半导体存储装置及其制造方法。半导体存储装置具备:第1层叠体,其具备具有第1平均晶体粒径的第1多晶半导体层、具有与第1平均晶体粒径相比较小的第2平均晶体粒径的第2多晶半导体层、第1多晶半导体层与第2多晶半导体层之间的中间层、与第2多晶半导体层相接设置且具有与第1平均晶体粒径相比较小的第3平均晶体粒径的第3多晶半导体层;第2层叠体,其设置于第1层叠体的上方,具有多个导电层和多个绝缘层,各个导电层及各个绝缘层交替层叠且沿第1方向延伸;半导体层,其沿与第1方向相交的第2方向贯穿第2层叠体,与第3多晶半导体层相接设置;以及存储器层,其沿第2方向贯穿第2层叠体,在第1方向上设置于半导体层与导电层之间。
搜索关键词: 半导体 存储 装置 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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