[发明专利]半导体存储装置及半导体存储装置的制造方法在审
申请号: | 202110632543.5 | 申请日: | 2021-06-07 |
公开(公告)号: | CN115050747A | 公开(公告)日: | 2022-09-13 |
发明(设计)人: | 鹿嶋孝之 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/11524 | 分类号: | H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11582 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 王程 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 实施方式提供具有高可靠性的半导体存储装置及其制造方法。半导体存储装置具备:第1层叠体,其具备具有第1平均晶体粒径的第1多晶半导体层、具有与第1平均晶体粒径相比较小的第2平均晶体粒径的第2多晶半导体层、第1多晶半导体层与第2多晶半导体层之间的中间层、与第2多晶半导体层相接设置且具有与第1平均晶体粒径相比较小的第3平均晶体粒径的第3多晶半导体层;第2层叠体,其设置于第1层叠体的上方,具有多个导电层和多个绝缘层,各个导电层及各个绝缘层交替层叠且沿第1方向延伸;半导体层,其沿与第1方向相交的第2方向贯穿第2层叠体,与第3多晶半导体层相接设置;以及存储器层,其沿第2方向贯穿第2层叠体,在第1方向上设置于半导体层与导电层之间。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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