[发明专利]垂直存储器件在审
| 申请号： | 202110294907.3 | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN113496999A | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 任钟皓;赵厚成;金泓秀 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/538 | 分类号： | H01L23/538;H01L27/11526;H01L27/11573 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 屈玉华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种垂直存储器件包括：在基板上的外围电路的电路图案，该电路图案包括下导电图案；单元堆叠结构，在电路图案之上并在第一水平方向上间隔开，其中每个单元堆叠结构包括在垂直方向上间隔开的栅电极；第一绝缘夹层，覆盖单元堆叠结构以及在单元堆叠结构之间的部分；贯穿通路接触，穿过单元堆叠结构之间的第一绝缘夹层以接触下导电图案的上表面；至少一个虚设贯穿通路接触，穿过单元堆叠结构之间的第一绝缘夹层并与贯穿通路接触相邻地设置；以及在贯穿通路接触上的上布线。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 存储 器件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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