[发明专利]清洁方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置以及存储介质

摘要

本发明提供能够提高处理室内的清洁效率的技术，该技术通过将依次进行以下工序的周期实施预定次数来除去附着于处理室内的堆积物：(a)在停止处理室内的排气的状态下，直至处理室内的压力上升到第一压力带为止向处理室内供给清洁气体；(b)同时进行处理室内的排气和向处理室内的清洁气体的供给，将处理室内的压力维持在第一压力带；以及(c)在停止向处理室内的清洁气体的供给的状态下，直至处理室内的压力成为比第一压力带低的第二压力为止，进行处理室内的排气。