[发明专利]一种铜蚀刻液组合物及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202011552376.5 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112795923B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民 | 申请（专利权）人： | 江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/14 | 分类号： | C23F1/14 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 212212 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种铜蚀刻液组合物及其制备方法和应用，所述铜蚀刻液包括主剂和辅剂，所述主剂和辅剂中至少一者中含有三聚氰胺和/或其衍生物。本发明的铜蚀刻液组合物价格低廉，且经所述铜蚀刻液处理过的铜/钼膜层表面无金属残留、无倒角、无裂缝、且具有较小的关键尺寸损失(CD‑loss)、较适当的锥角(taper angle)、较高的铜负载量、较小的CD‑loss变化量和较小锥角变化量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 组合 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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