[发明专利]一种铜蚀刻液组合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种铜蚀刻液组合物，其特征在于，所述铜蚀刻液组合物包括主剂和辅剂，所述主剂和辅剂中均含有三聚氰胺衍生物；

所述三聚氰胺衍生物为六羟丙基三聚氰胺；

所述主剂按照质量百分比含量包含如下组分：

所述辅剂按质量百分比含量包括以下组分：

所述主剂、辅剂中的有机酸选自丙二酸、丁二酸、苹果酸和次氨基三乙酸的组合；

所述主剂、辅剂中的有机碱选自二甲基乙醇胺和三乙醇胺；

在蚀刻过程中，按照铜离子浓度每升高100ppm，向体系中添加占蚀刻液主剂质量的0.05％-0.15％的蚀刻液辅剂。

2.根据权利要求1所述的铜蚀刻液组合物，其特征在于，主剂中的双氧水稳定剂选自苯基脲和/或对羟基苯磺酸。

3.根据权利要求2所述的铜蚀刻液组合物，其特征在于，主剂中的双氧水稳定剂选自苯基脲。

4.根据权利要求1所述的铜蚀刻液组合物，其特征在于，主剂中溶剂为超纯水。

5.根据权利要求1所述的铜蚀刻液组合物，其特征在于，辅剂中的溶剂为超纯水。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的铜蚀刻液组合物的制备方法，其特征在于，所述制备方法为：

(1)将过氧化氢、有机酸、有机碱、双氧水稳定剂、三聚氰胺衍生物与溶剂在温度不超过50℃的情况下混合搅拌，经过滤合格后得到所述铜蚀刻液主剂；

(2)将有机酸、有机碱、三聚氰胺衍生物与溶剂在温度不超过50℃的情况下混合搅拌，经过滤合格后得到所述铜蚀刻液辅剂；得到主剂和辅剂后即得到所述铜蚀刻液组合物。

7.一种铜膜层的蚀刻方法，其特征在于，所述蚀刻方法利用如权利要求1-5任一项所述的铜蚀刻液组合物进行蚀刻。