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[发明专利]一种分光光度计测定铜酸蚀刻液中氯离子的方法及应用-CN202310692792.2在审
发明人：魏春雷;徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-06-12 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：本发明公开了一种分光光度计测定铜酸蚀刻液中氯离子的方法，包括以下步骤：制备氯离子标准溶液；待测溶液前处理；分光光度计测定吸光度，绘制标准曲线。本发明通过加入硝酸溶液，可以避免蚀刻液本身pH值的影响，并且排除碳酸根的干扰，避免形成碳酸银沉淀，造成氯离子检测误差。并且前处理简单，不受待测溶液本身pH的影响，所需试剂少，无制毒成分，环境友好，操作简单，测试步骤少，节约时间，废液处理简单。
一种分光光度计测定蚀刻氯离子方法应用

[发明专利]一种用于制备间隙粒子材料的感光组合物-CN202110569677.7有效
发明人：邵振;苏斌 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于制备间隙粒子材料的感光组合物，包含丙烯酸树脂单体、光引发剂、反应控制剂和溶剂，所述反应控制剂包含卤代苯酚衍生物。本发明提供的感光组合物在紫外光固化条件下，可以制备具有适当的柔韧性、良好的粘合性、上下底差值小且与显影液相容性好的间隙粒子材料，本发明提供的感光组合物制备得到的间隙粒子材料可以适用于大尺寸液晶显示器。
一种用于制备间隙粒子材料感光组合

[发明专利]一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法-CN202111654023.0有效
发明人：邵振;张子兰 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G01N21/33 文献下载
摘要：本发明提供一种铜蚀刻液中硝酸根离子含量的检测方法，包含如下步骤：S1：配制标准原液及对标准原液稀释得到成浓度梯度的原液稀释液，标准原液的配制原料中包含至少一种有机碱、硝酸、至少一种羧酸类化合物、以及至少一种酚类化合物；S2：利用紫外分光光度计在一定波长范围下对步骤S1配制得到的标准原液及原液稀释液进行硝酸根离子的检测，绘制浓度‑吸光度的标准曲线；S3：将待测铜蚀刻液用水和标准原液稀释液稀释处理后获得待测样品，采用紫外分光光度计测试待测样品的吸光度，计算待测样品的硝酸根离子浓度，计算待测铜蚀刻液中硝酸根离子的浓度。本发明的检测方法精度高、易操作且废液量较少，能够实现铜蚀刻液中硝酸根离子的快速检测。
一种蚀刻硝酸离子含量检测方法

[实用新型]一种SEM样品台-CN202222823468.3有效
发明人：凌明华;徐帅;李闯;张红伟;黄海东;胡天齐;王毅明;方新军;戚玉霞 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01N23/2204 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种SEM样品台，属于SEM显微镜零部件技术领域，该一种SEM样品台，包括底台部；凸出部，一体成型于所述底台部的工作面，并以所述凸出部的上表面以及两侧面作为样品的附着面；固定件，由导电材料制成，固定于所述底台部的工作面，且位于所述凸出部的一侧；移动件。通过在一体成型于底台部工作面的凸出部的两侧分别设置固定件和移动件，通过控制移动件的线性移动，配合固定于底台部上工作面上固定件，从而实现固定件和移动件两相对夹持面间距的调节，从而实现对粘接于所述凸出部两侧面的样品进行夹持，并将固定件和移动件作为该样品的导电介质，以提高成像的清晰度。
一种 sem 样品

[发明专利]一种ITO蚀刻液组合物及其制备方法-CN202310515299.3在审
发明人：徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;魏春雷;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-05-08 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：本发明涉及化学蚀刻液技术领域，尤其涉及IPC C09K13领域，更具体的，涉及一种ITO蚀刻液组合物及其制备方法。组分包括：草酸和/或草酸盐3‑10％，无机酸和/或无机酸盐0.01‑0.1％，有机碱0.5‑5％，表面活性剂0.01‑0.5％，去离子水补足余量。有机碱和表面活性剂的重量比为(1‑2)：(0.1‑0.5)，可提高ITO设备的稼动率，同时提高In负载达到2000ppm，提高药液使用周期较长，节省企业材料成本；表面活性剂包括萘系阴离子表面活性剂，可有效抑制草酸铟的结晶。
一种 ito 蚀刻组合及其制备方法

[发明专利]一种低成本的铜钼蚀刻液组合物及其制备与使用方法-CN202310294562.0在审
发明人：刘长乐;丁荣;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;马强;魏春雷;徐帅;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及专利IPC分类的C23F1领域，尤其涉及一种低成本的铜钼蚀刻液组合物及其制备与使用方法。包括主剂和辅剂，以质量百分比计，所述主剂包括：过氧化氢6～20％，有机酸1～15％，有机碱1～15％，过氧化氢稳定剂0.1～5％，缓蚀剂0.001～1％，表面活性剂0.1‑10％，电化学调节剂0.3‑5％，超纯水补充余量；所述辅剂包括：有机酸5～30％，有机碱5～30％，过氧化氢稳定剂0.01～2％，缓蚀剂0.001～1％，表面活性剂0.1‑10％，电化学调节剂0.3‑5％，超纯水补充余量。解决倒角与蚀刻形貌的问题，具有14000ppm的铜离子负载能力，钼残下限可达0.50μm。
一种低成本蚀刻组合及其制备使用方法

[发明专利]一种纯铜金属刻蚀液及其使用方法-CN202310294563.5在审
发明人：刘长乐;丁荣;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;马强;魏春雷;徐帅;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及金属表面化学处理领域，尤其涉及IPC C23F1领域，具体涉及一种纯铜金属刻蚀液及其使用方法。所述主剂的组分按照主剂的质量百分比计，包括：氧化剂3‑15％，强氧化性酸1‑15％，有机酸1‑15％，有机碱0.5‑15％，双氧水稳定剂0.01‑4.0％，金属缓蚀剂0.01‑1.0％。所述辅剂的组分按照辅剂的质量百分比计，包括：有机酸1‑40％，金属缓蚀剂0.01‑1％。本发明具有拥有极佳的蚀刻范围，能实现表面无金属残留、无倒角、无裂缝、较高的铜负载量，能有满足超精细产品的生产要求。
一种金属刻蚀及其使用方法

[发明专利]一种用于显示制程金属离子酸性蚀刻液的生产系统及方法-CN202210502822.4有效
发明人：邵振;陈杰 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2022-05-10 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B01F35/80 文献下载
摘要：本发明提供一种用于显示制程金属离子酸性蚀刻液的生产系统及方法，包括通过PLC控制进行程序升温的加热器，所述加热器对蚀刻液预混原料和添加剂进行程序升温，其中蚀刻液预混原料包括酸、碱、金属无机盐，快速换热器，所述快速换热器连接所述加热器，用以对加热器程序升温后的蚀刻液预混原料快速换热，双氧水混合罐，所述双氧水混合罐连接所述快速换热器，用以对快速换热器快速换热后的蚀刻液预混原料和双氧水混合，采用程序升温制得的显示制程金属离子酸性蚀刻液相对于未使用程序升温的显示制程金属离子酸性蚀刻液蚀刻效果和侧蚀效果更稳定。
一种用于显示金属离子酸性蚀刻生产系统方法

[发明专利]一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物及其制备方法-CN202310323581.1在审
发明人：徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;魏春雷;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及蚀刻液技术领域(IPC分类号为C23F1/18)，尤其涉及一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物及其制备方法，所述组合物包括主剂和辅剂，所述主剂的制备原料包括：过氧化氢、氟源、有机酸、丁基醚衍生物、第一氨基氮唑衍生物、第一溶剂。所制备的金属蚀刻液组合物具有远高于现有技术的铜离子负载量，负载能力可达25000ppm，蚀刻性能良好，蚀刻持久性强，蚀刻液使用寿命长，经济效益高，实际应用中能够显著为企业节省成本并提高成品效果，具有极高的应用价值。
一种超高离子负载金属蚀刻组合及其制备方法

[发明专利]一种铜钼合金刻蚀液组合物及其制备方法-CN202310022120.0在审
发明人：刘长乐;徐帅;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;王毅明 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及专利IPC分类的C23F领域，尤其涉及一种铜钼合金刻蚀液组合物及其制备方法。铜钼合金刻蚀液组合物，主剂，以质量百分比计，原料包括：过氧化物5～20％，有机酸1～18％，有机碱1～20％，过氧化物稳定剂0.1～5％，缓蚀剂0.01～1％，助剂2～8％，超纯水补充余量；辅剂，以质量百分比计，原料包括：有机酸5～30％，有机碱5～30％，过氧化物稳定剂0.01～1.5％，缓蚀剂0.01～0.5％，超纯水补充余量。本发明提供的一种铜钼其能够具有适宜的刻蚀速率，避免了现有技术中铜钼刻蚀液的缺点，有效提高了刻蚀液的对于铜钼合金的刻蚀质量，适宜在刻蚀液领域推广，具有广阔的发展前景。
一种合金刻蚀组合及其制备方法

[发明专利]一种液晶面板MTD-Cu-MTD用刻蚀液及其制备方法-CN202310020587.1在审
发明人：马强;徐帅;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;王毅明 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及专利IPC分类的C23F领域，尤其涉及一种液晶面板MTD‑Cu‑MTD用刻蚀液及其制备方法。刻蚀液，以质量百分比计，原料包括：1～20％氧化物，0.01～5％氧化物稳定剂，1～10％有机酸，1～10％有机碱，1～5％无机酸，助剂0.5～5％，缓蚀剂0.01～5％，去离子水补充余量。本发明提供的一种其能够具有适宜的刻蚀速率，避免了现有的三层金属刻蚀液容易出现的刻蚀速度过慢导致的顶层金属突出以及刻蚀速度过快顶层侧蚀严重等现象，有效提高了刻蚀液的对于三层金属的刻蚀质量。
一种液晶面板 mtd cu 刻蚀及其制备方法

[实用新型]一种小型反应釜-CN202222131786.3有效
发明人：凌明华;徐帅;张红伟;李闯;黄海东;胡天齐;王毅明;方新军;戚玉霞 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-08-12 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B01F27/80 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种小型反应釜，属于反应釜技术领域，该一种小型反应釜，包括壳体部件，所述壳体部件内部中空形成有反应区间，所述壳体部件包括内层壳体和外层壳体，且所述内层壳体和外层壳体之间形成有控温区间；感温部件，所述感温部件的测温探头延伸至所述反应区间内；控温部件，通过管道同所述壳体部件上的流体进口和流体出口连接。通过设置感温部件对反应区间内液体温度进行测量，通过控制器对测量的数据进行处理，并将测量所得到的数值同标椎值进行比较，通过比较的结果控制控温部件的运行，进而对控温组件内流体的温度进行调节，进而实现反应区间内温度的调节，使反应温度可控化，从而降低实验误差。
一种小型反应

[实用新型]一种精细控制的流量测量装置-CN202222303554.1有效
发明人：邵振;石玉国;王毅明;陶建军;王海江;黄海东 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： G01F1/74 文献下载
摘要：本实用新型提供一种精细控制的流量测量装置，包括物料管以及安装在物料管内的流量计，工作时，物料管内的液体先流经流量计，然后流经阻流坡后流出，本实用新型精细控制的流量测量装置的设置，可以使得液体平稳的流过流量计，使得流量计对流过的液体的量测量更准确，并且由于流过流量计的液体速度平稳，从而在电缆传输时，使得信号传递更平稳，从而避免造成信号丢失，提高DCS远传显示的准确性。
一种精细控制流量测量装置

[发明专利]一种铜蚀刻液组合物及其制备方法和应用-CN202011552376.5有效
发明人：徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种铜蚀刻液组合物及其制备方法和应用，所述铜蚀刻液包括主剂和辅剂，所述主剂和辅剂中至少一者中含有三聚氰胺和/或其衍生物。本发明的铜蚀刻液组合物价格低廉，且经所述铜蚀刻液处理过的铜/钼膜层表面无金属残留、无倒角、无裂缝、且具有较小的关键尺寸损失(CD‑loss)、较适当的锥角(taper angle)、较高的铜负载量、较小的CD‑loss变化量和较小锥角变化量。
一种蚀刻组合及其制备方法应用

[实用新型]一种小型蚀刻机-CN202222132142.6有效
发明人：凌明华;徐帅;张红伟;李闯;黄海东;胡天齐;王毅明;方新军;戚玉霞 -专利权人： 江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-08-12 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种小型蚀刻机，属于蚀刻机技术领域，该一种小型蚀刻机，包括壳体部件，内部形成有一工作区间；隔板部件，垂直设置于所述壳体部件内，从而将所述工作区间划分为相互独立的水洗区间和蚀刻区间；载物基台，设置于所述工作区间内。通过设置隔板部件将壳体部件的内部空间分为相互独立的蚀刻区间和水洗区间，配合蚀刻组件和水洗组件实现相应的蚀刻和水洗作业，通过设置推料组件带动放置有玻璃基板的载物基台在水洗区间和蚀刻区间之间运动，从而将玻璃基板的水洗作业和蚀刻作业联系在一起，实现产线化作业。
一种小型蚀刻

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