[发明专利]堆叠式电容器、半导体存储器件及制备方法在审

专利信息
申请号: 202010604966.1 申请日: 2020-06-29
公开(公告)号: CN113937090A 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 崔锺武;金成基;王桂磊;杨涛;李俊峰;王文武 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
主分类号: H01L23/64 分类号: H01L23/64;H01L27/108
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 佟林松
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请涉及半导体技术领域,具体涉及一种电容器,包括:底电极;介电层,介电层形成在底电极上;顶电极组件,顶电极组件形成在介电层上,顶电极组件包括自介电层的一侧依次层叠形成的第一顶电极、第二顶电极以及第三顶电极;其中,第一顶电极为金属层,第二顶电极为掺杂碳、硼的硅锗层,第三顶电极为掺杂硼的硅锗层。本申请通过在第一顶电极、第三顶电极之间形成掺杂碳、硼的硅锗层,这样在第一顶电极上形成了掺杂碳、硼的硅锗层与掺杂硼的硅锗层的双重结构,大大减少了电阻增加,同时还减少了掺杂硼的硅锗层的残余应力,降低其对电容器的介电层产生的机械应力,解决了介电层的漏电问题。
搜索关键词: 堆叠 电容器 半导体 存储 器件 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司,未经中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010604966.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top