[发明专利]堆叠式电容器、半导体存储器件及制备方法在审
申请号: | 202010604966.1 | 申请日: | 2020-06-29 |
公开(公告)号: | CN113937090A | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 崔锺武;金成基;王桂磊;杨涛;李俊峰;王文武 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01L23/64 | 分类号: | H01L23/64;H01L27/108 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 佟林松 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请涉及半导体技术领域,具体涉及一种电容器,包括:底电极;介电层,介电层形成在底电极上;顶电极组件,顶电极组件形成在介电层上,顶电极组件包括自介电层的一侧依次层叠形成的第一顶电极、第二顶电极以及第三顶电极;其中,第一顶电极为金属层,第二顶电极为掺杂碳、硼的硅锗层,第三顶电极为掺杂硼的硅锗层。本申请通过在第一顶电极、第三顶电极之间形成掺杂碳、硼的硅锗层,这样在第一顶电极上形成了掺杂碳、硼的硅锗层与掺杂硼的硅锗层的双重结构,大大减少了电阻增加,同时还减少了掺杂硼的硅锗层的残余应力,降低其对电容器的介电层产生的机械应力,解决了介电层的漏电问题。 | ||
搜索关键词: | 堆叠 电容器 半导体 存储 器件 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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