[发明专利]三维半导体存储器件在审

专利信息
申请号: 202010142200.6 申请日: 2020-03-04
公开(公告)号: CN111863822A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 安钟善;沈在龙;郑基容;韩智勋 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11519 分类号: H01L27/11519;H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/11565;H01L27/1157;H01L27/11582;H01L27/11548;H01L27/11575
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 屈玉华
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种三维(3D)半导体存储器件包括:第一半导体层和第二半导体层,彼此水平地间隔开;掩埋绝缘层,在第一半导体层和第二半导体层之间;设置在第一半导体层上的第一单元阵列结构和设置在第二半导体层上的第二单元阵列结构;以及隔离结构,设置在第一单元阵列结构和第二单元阵列结构之间的掩埋绝缘层上,其中第一单元阵列结构包括:电极结构,包括在垂直于第一半导体层的顶表面的方向上堆叠的电极;和第一源极结构,设置在第一半导体层和电极结构之间,第一源极结构延伸到掩埋绝缘层上,隔离结构在第一单元阵列结构的第一源极结构和第二单元阵列结构的第二源极结构之间。
搜索关键词: 三维 半导体 存储 器件
【主权项】:
暂无信息
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