[发明专利]半导体样品的基于深度学习的检查的方法及其系统在审
| 申请号： | 201980006809.6 | 申请日： | 2019-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN111512324A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | O·肖比;D·苏哈诺夫;A·阿斯巴格;B·科恩 | 申请（专利权）人： | 应用材料以色列公司 |
| 主分类号： | G06N3/04 | 分类号： | G06N3/04;G06N3/08;G06K9/03;G06K9/46;G06K9/62;G06T7/00;G01N21/95 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 以色列瑞*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文提供了一种检查半导体样品的方法及其系统。所述方法包括：使用经训练的深度神经网络(DNN)来处理制造工艺(FP)样本，其中FP样本包括：从(多个)第一检查模态接收的(多个)第一FP图像和从(多个)第二检查模态接收的(多个)第二FP图像，所述(多个)第二检查模态与所述(多个)第一检查模态不同，并且其中所述经训练的DNN与所述(多个)第二FP图像分开地处理所述(多个)第一FP图像；且进一步地通过所述经训练的DNN来处理此种单独处理的结果以获得特定于给定的应用并表征经处理的所述FP图像中的至少一个FP图像的检查相关的数据。当FP样本进一步包括与所述(多个)FP图像相关联的数值数据时，所述方法进一步包括：通过所述经训练的DNN而与处理所述第一FP图像和所述第二FP图像分开地处理数值数据的至少部分。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 样品 基于 深度 学习 检查 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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