[实用新型]一种用于干法蚀刻制备二氧化硅光学微盘腔的前驱体有效
| 申请号： | 201920269124.8 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN209373172U | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 姜校顺;顾佳新;程欣宇;李冠宇;肖敏 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | G02B6/136 | 分类号： | G02B6/136;G02B6/13 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 210093 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于干法蚀刻制备二氧化硅光学微盘腔的前驱体，所述前驱体包括由硅基底依次叠加的二氧化硅层、非晶硅或氮化硅层以及光刻胶层。通过所述前驱体制备得到的二氧化硅光学微盘腔尺寸大，且具有超高的品质因子。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 前驱体 微盘 干法蚀刻 制备 本实用新型 二氧化硅层 氮化硅层 光刻胶层 品质因子 前驱体制 依次叠加 非晶硅 硅基 | ||
【主权项】：
1.一种用于干法蚀刻制备二氧化硅光学微盘腔的前驱体，其特征在于，所述前驱体包括由硅基底依次叠加的二氧化硅层、非晶硅或氮化硅层以及光刻胶层。
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- 一种PLC光器件的制造方法-201010604199.0
- 王鹏飞;刘磊;刘伟 - 苏州东微半导体有限公司
- 2010-12-24 - 2012-07-04 - G02B6/136
- 本发明属于平面光分路器(Planar Lightwave Circuit Splitter，PLC splitter)技术领域，具体涉及一种光波导的制造方法，包括：在硅片上生长一层二氧化硅；淀积光刻胶；光刻形成图形；在光刻胶之间的凹槽内形成高折射率的光波导芯层；剥除光刻胶；形成低折射率膜上包层。本发明所提出的光波导的制造方法工艺过程简单，技术难度低，原材料以及生产设备要求低，降低了生产成本，易于实现产业化规模生产。
- 一种PLC光器件的制造方法-201010604185.9
- 刘磊;刘伟;王鹏飞 - 苏州东微半导体有限公司
- 2010-12-24 - 2012-07-04 - G02B6/136
- 本发明属于平面光分路器(Planar Lightwave Circuit Splitter，PLC splitter)技术领域，具体涉及一种光波导的制造方法，包括：在玻璃衬底上淀积一层光刻胶；光刻形成图形；在光刻胶之间的凹槽内形成高折射率的光波导芯层；将光刻胶固化；形成低折射率膜上包层。本发明所提出的光波导的制造方法工艺过程简单，技术难度低，原材料以及生产设备要求低，降低了生产成本，易于实现产业化规模生产。
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