[发明专利]二氧化硅膜、光学构件及偏振构件有效
| 申请号： | 201580036067.3 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN106662672B | 公开（公告）日： | 2019-07-23 |
| 发明（设计）人： | 小堀重人 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/113 | 分类号： | G02B1/113;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;杨莘 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供这样的二氧化硅膜，即使在所述二氧化硅膜中含有中空二氧化硅颗粒时其膜强度也不容易降低。另外，提供具有低反射率的二氧化硅膜等。二氧化硅层(二氧化硅膜)包括二氧化硅和氟化中空二氧化硅颗粒。二氧化硅通过将聚硅氮烷转化为二氧化硅形成。氟化中空二氧化硅颗粒局部分布于二氧化硅层的表面上。氟化中空二氧化硅颗粒局部化的部分具有低折射率层的功能，而除氟化中空二氧化硅颗粒所在部分以外的部分具有硬质涂层的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 光学 构件 偏振 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件，包括：基底；以及二氧化硅膜，设置在所述基底上，其中所述二氧化硅膜具有第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面彼此相反，所述二氧化硅膜包括二氧化硅和分布于所述二氧化硅中的氟化中空二氧化硅颗粒，所述氟化中空二氧化硅颗粒非均匀分布并且朝向所述第一表面浓度越大，以及所述二氧化硅膜的第一表面具有凹凸结构。
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