[发明专利]半导体存储装置在审

专利信息
申请号: 201910720147.0 申请日: 2019-08-05
公开(公告)号: CN111276487A 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 乳井浩平;鹿嶋孝之 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11565;H01L27/11551
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的实施方式的半导体存储装置包含多个第1导电体层、第2导电体层、第1柱及第2柱。第2导电体层设置在多个第1导电体层的上方。第1柱贯通多个第1导电体层且包含沿第1方向延伸的第1半导体层的一部分。第2柱贯通第2导电体层且包含第1半导体层的另一部分,设置在第1柱上。与衬底平行且包含第2导电体层的截面中的第2柱的截面积小于与衬底平行且包含第1导电体层的截面中的第1柱的截面积。第1半导体层包含与最上层的第1导电体层对向的第1部分、及与第2导电体层对向的第2部分,第1半导体层至少从第1部分到第2部分为连续膜。
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝存储器株式会社,未经东芝存储器株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910720147.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top