[发明专利]一种钛、铅共掺杂二硫化钨复合薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201910320095.8 | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN110016644A | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 胡建强;郭力;徐克明;徐新;杨士钊;郑全喜 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军空军勤务学院 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 温州市品创专利商标代理事务所(普通合伙) 33247 | 代理人： | 洪中清 |
| 地址： | 221000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种钛、铅共掺杂二硫化钨复合薄膜的制备方法，包括如下步骤：S1、对不锈钢片进行前物理化学清洗，磨光、抛光处理，刻蚀样品表面，除去样品表面的氧化物和其他污染物；S2、将二硫化钨靶、钛靶、铅靶和前处理后的不锈钢片装入闭合场非平衡磁控溅射沉积室，将沉积室的抽气压，通入高纯氩气为工作气体，将脉冲偏压施加至基材上；S3、调节钛靶电流，先在基底表面沉积一层过渡层，以提高薄膜与基底之间的结合力；S4、通过同时调节钛靶和铅靶电流，溅射一定时间后，制备得到。本发明方法工艺简单，能同时提高二硫化钨复合薄膜的硬度、弹性模量等力学性能和抗氧化性能，以及潮湿环境中的耐磨、润滑等摩擦学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 二硫化钨 复合薄膜 制备 不锈钢片 沉积室 共掺杂 钛靶 弹性模量 闭合场非平衡磁控溅射 物理化学 二硫化钨靶 抗氧化性能 摩擦学性能 潮湿环境 高纯氩气 工作气体 基底表面 刻蚀样品 力学性能 脉冲偏压 抛光处理 样品表面 钛靶电流 过渡层 结合力 前处理 磨光 氧化物 基材 基底 溅射 耐磨 沉积 气压 薄膜 装入 清洗 污染物 施加 | ||
【主权项】：
1.一种钛、铅共掺杂二硫化钨复合薄膜的制备方法，其特征在于，依次包括以下步骤：S1、对不锈钢片进行前物理化学清洗，然后磨光、抛光处理，确保基体表面的粗糙度小于Ra2μm，刻蚀样品表面，除去样品表面的氧化物和其他污染物；S2、将多孔氧化石墨烯、二硫化钨靶、钛靶、铅靶和前处理后的不锈钢片装入闭合场非平衡磁控溅射沉积室，将沉积室的气压抽至1.0×103Pa后，通入高纯氩气为工作气体，将脉冲偏压施加至基材上；S3、调节钛靶电流，在基底表面沉积一层150nm‑200nm厚的过渡层；S4、调节钛靶和铅靶电流，溅射后得到钛、铅共掺杂二硫化钨复合薄膜。
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