专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种硫化材的制备方法-CN201810568118.2有效
  • 康明生;崔娜;朱辉;郄奕;张卫;李松敏 - 河北东同光电科技有限公司
  • 2018-06-05 - 2020-05-05 - C04B35/547
  • 一种硫化材的制备方法,属于非金属材的技术领域,采用真空热压烧结制备,包括以下步骤:A、硫化的预处理:将硫化硫化钼粉体、碳粉混合均匀,得混合物料,备用;B、真空热压烧结:将步骤A得到的混合物料装入模具中1300‑1550℃,烧结压力25‑38MPa,并保温保压2‑5h,烧结完成后,降温至810‑850℃,撤压,降温到150℃以下时,出炉,得到粗坯;C、精加工:将步骤B得到的粗坯经过切割、平面磨加工,得到硫化材本发明简单、易操作,安全无污染,填补了硫化材制备的空白,且制备的硫化材密度高、稳定性好。
  • 一种硫化钨靶材制备方法
  • [发明专利]一种耐磨硫化薄膜的制备方法-CN201710207006.X有效
  • 郑晓华;杨芳儿;沈靖枫;徐秉政;李昂;鲁叶 - 浙江工业大学
  • 2017-03-31 - 2019-11-29 - C23C14/06
  • 一种耐磨硫化薄膜的制备方法,包括如下步骤:(1)对单晶硅片进行前处理,使其表面清洁、粗糙度不高于Ra 0.1;将石墨、WS2和前处理后的单晶硅片装入多磁控溅射沉积室,将沉积室的气压抽至1.0×10‑3 Pa后,调整好基距,并将脉冲直流负偏压施加至基材上;(2)通入高纯氩气为工作气体,然后以石墨作为溅射靶材,于单晶硅片表面沉积厚度为20nm~400nm的非晶态碳膜;(3)将步骤(2)所得非晶态碳膜的温度调整到200℃,然后以WS2为溅射靶材,在非晶态碳膜上沉积厚度为140~740nm的WS2薄膜,从而获得硫化薄膜本发明方法工艺简单、经济性较好,能显著提高硫化薄膜的力学性能以及在真空或潮湿环境中的耐磨性能。
  • 一种耐磨硫化薄膜制备方法
  • [发明专利]材的车削方法-CN201510315997.4在审
  • 姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;马松 - 宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 2015-06-10 - 2017-01-04 - B23B1/00
  • 一种材的车削方法,包括:提供材和背板;将所述材和背板焊接在一起,形成材组件;采用第一刀具对所述材组件中的所述材进行第一车削,所述第一刀具切削刃的夹角为80°;在所述第一车削后,对所述材组件的所述背板进行加工;在对所述材组件的所述背板进行加工后,采用第刀具对所述材的坯料进行第车削,所述第刀具切削刃的夹角为35°~55°。所述车削方法以提高所形成的材的质量,并且减缓刀具的磨损。
  • 钨钛靶材车削方法
  • [发明专利]一种纳米级硫化材料及其制备方法、装置-CN202011581264.2有效
  • 路振先;潘琦 - 浙江爱润特汽车科技有限公司
  • 2020-12-28 - 2021-10-22 - B02C21/00
  • 本发明公开一种纳米级硫化材料及其制备方法、装置,所述纳米级硫化材料包括下面原料组分,各组分的重量配比为:氯化钙溶液、酸钠溶液、环己烷溶液、正丁烷溶液、盐酸、高纯硫粉;所述一种纳米级硫化材料的制备方法包括如下步骤:按配方比称取原料、制备酸钙、制备氧化、准备工作、制备硫化、破碎、粉碎;所述一种纳米级硫化材料制备方法的装置,对硫化材料进行破碎、粉碎处理,制得纳米级硫化。本发明硫化材料,制备过程简单,不使用有毒气体,安全可靠,操作简单,制备效果好。
  • 一种纳米硫化材料及其制备方法装置
  • [发明专利]硫化/硒化电极材料、制备方法及其应用-CN202310145892.3在审
  • 孔德斌;冯文婷;智林杰;韩俊伟;岳金书 - 中国石油大学(华东)
  • 2023-02-20 - 2023-06-06 - H01M4/36
  • 本发明属于钾离子电池电极材料技术领域,公开了硫化/硒化电极材料、制备方法及其应用,将高温反应获得的硫化/硒化块体材料与小尺寸离子液体或有机小分子机械混合,离子液体或小分子作为插层剂插入硫化/硒化分子层间中调控层间结构,获得扩层且剥离的超分散硫化/硒化材料;在超分散的硫化/硒化材料中引入铁磁性金属阳离子,获得铁磁性金属阳离子掺杂的超分散硫化/硒化电极材料。本发明利用“插层剥离‑阳离子掺杂”相结合的策略获得具有大层间距、小尺寸、少层数、超分散且具有一定铁磁性特性的硫化/硒化电极材料,用于钾离子电池负极材料,容量可达336mAh·g
  • 硫化二硒化钨电极材料制备方法及其应用

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