[发明专利]成膜装置和成膜方法在审
申请号: | 201910316597.3 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN110396678A | 公开(公告)日: | 2019-11-01 |
发明(设计)人: | 山口达也;新纳礼二;饭塚洋二 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/46;H01L21/67;H01L21/687 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供在对基板供给相互反应而成为膜物质的成膜气体、形成由膜物质构成的膜的成膜装置中,生产率高、且提高在基板形成的膜的膜厚的面内均匀性和面间均匀性的技术。在处理容器内设置使基板绕旋转轴公转的旋转台,构成为进行载置于旋转台的加热。另外,配置向旋转台吐出成膜气体的气体供给部,使其在旋转台旋转时与基板发生移动的移动区域相对,设置气体供给孔使其从旋转台的中心侧至周缘侧的范围与移动区域交叉。而且在移动区域中的互相重叠的区域同时供给第一成膜气体和第二成膜气体。因此,能够连续处理多个基板,因此生产率提高,并且在基板形成的膜的膜厚的面内均匀性和面间均匀性良好。 | ||
搜索关键词: | 旋转台 成膜气体 基板 移动区域 面内均匀性 成膜装置 均匀性 膜厚 和面 气体供给部 气体供给孔 处理容器 多个基板 发生移动 互相重叠 连续处理 对基板 旋转轴 周缘侧 成膜 吐出 加热 配置 | ||
【主权项】:
1.一种成膜装置,其特征在于,包括:形成真空气氛的处理容器;旋转台,其设置在所述处理容器内,用于载置多个基板的基板载置区域形成在其上表面侧,具有使所述基板载置区域绕旋转轴公转的旋转机构;加热机构,其加热载置于所述基板载置区域的基板;气体供给部,其以在使所述旋转台旋转时,与基板发生移动的移动区域相对的方式设置,吐气孔、从所述旋转台的旋转中心侧至周缘侧的范围以与所述移动区域交叉的方式形成,该吐气孔用于向所述旋转台侧吐出作为用于吸附于利用所述加热机构加热的基板的表面、且用于互相反应而形成膜物质的作为成膜气体的第一成膜气体和第二成膜气体;和用于将所述处理容器内排气的排气部,所述第一成膜气体和第二成膜气体同时被供给到所述移动区域的互相重叠的区域。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的