[发明专利]薄膜形成用原料、薄膜的制造方法以及新型化合物在审

专利信息
申请号: 201880043465.1 申请日: 2018-05-17
公开(公告)号: CN110799665A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 西田章浩;冈田奈奈;大江佳毅 申请(专利权)人: 株式会社ADEKA
主分类号: C23C16/32 分类号: C23C16/32;C07F17/00;C23C16/18;H01L21/316;C07F7/28
代理公司: 11332 北京品源专利代理有限公司 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于,提供一种安全性、搬运性以及生产性优异的能用于CVD法的薄膜形成用原料、使用了该原料的薄膜的制造方法以及用作薄膜形成用原料的新型化合物。为了实现上述目的,本发明是一种含有下述通式(1)所示的化合物的薄膜形成用原料、使用了该原料的薄膜的制造方法以及在说明书中由通式(2)表示的新型化合物。[式(1)中,X表示卤素原子,R表示碳原子数1~5的伯烷基或仲丁基。]
搜索关键词: 薄膜形成 式( 1 ) 新型化合物 薄膜 烷基 卤素原子 碳原子数 生产性 仲丁基 搬运 制造
【主权项】:
1.一种薄膜形成用原料,其含有通式(1)所示的化合物,/n
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