专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]化妆料用聚氨酯以及化妆料用聚氨酯的制造方法-CN202080015477.0有效
  • 宫园圭大郎;松仓范佳;津岛康宏;白井博明 - 株式会社ADEKA
  • 2020-02-17 - 2023-10-17 - C08G18/08
  • 本发明提供一种化妆料用聚氨酯、制造方法、包含该化妆料用聚氨酯的化妆料,所述化妆料用聚氨酯是使如下物质进行反应而得到的重均分子量为50000~300000的化妆料用聚氨酯:(A)每一个分子具有两个以上的羟基的聚酯多元醇;(B)由碳原子数3~8的脂肪族烃基和两个羟基构成的脂肪族二醇;(C)分子内具有羧基和两个羟基且分子量为100~300的含羧基的二醇;(D)包含选自由异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯以及二环己基甲烷-4,4’-二异氰酸酯构成的组中的至少一种的二异氰酸酯;以及(E)包含选自由水、亚乙基二胺以及亚丙基二胺构成的组中的至少一种的扩链剂。
  • 化妆聚氨酯以及制造方法
  • [发明专利]环氧树脂用固化剂组合物、环氧树脂组合物以及涂料-CN202180062663.4在审
  • 佐藤大辅;绫洋一 - 株式会社ADEKA
  • 2021-09-10 - 2023-08-15 - C08L63/00
  • 本发明提供一种环氧树脂用固化剂组合物、包含环氧树脂用固化剂组合物的环氧树脂组合物、以及涂料,所述环氧树脂用固化剂组合物包含:作为下述通式(1)所示的化合物的(A)成分;以及作为选自由下述通式(2)和通式(3)所示的化合物构成的组中的至少一种的(B)成分,(A)成分与(B)成分的质量比为7∶3~9∶1。(式(1)中,R1和R2分别独立地表示氢原子或甲基,X1~X3分别独立地表示从多胺化合物中去除两个氨基而成的残基,n表示0~10的整数。)(式(2)中,X4表示从多胺化合物中去除两个氨基而成的残基。)(式(3)中,x表示1~6的整数,y表示1~40的整数,z表示1~6的整数。)
  • 环氧树脂固化剂组合以及涂料
  • [发明专利]薄膜的制造方法-CN202180077611.4在审
  • 西田章浩;畑濑雅子;吉野智晴;大江佳毅;满井千瑛 - 株式会社ADEKA
  • 2021-11-16 - 2023-08-01 - C23C16/40
  • 本发明提供一种薄膜的制造方法,其是通过原子层沉积法在基体的表面制造含有铪原子的薄膜的方法,其包括以下工序:工序1:使将含有下述通式(1)表示的铪化合物的薄膜形成用原料气化而成的原料气体吸附在所述基体的表面而形成前体薄膜;工序2:排出未反应的原料气体;以及,工序3:在300℃以上且小于450℃的温度下使所述前体薄膜与反应性气体反应而在所述基体的表面形成含有铪原子的薄膜。(式中,R1和R2各自独立表示氢原子或碳数1~3的烷基,R3和R4各自独立地表示碳数1~3的烷基。)
  • 薄膜制造方法
  • [发明专利]组合物-CN202180069896.7在审
  • 佐久间信至;伴野拓巳;宫田康平;滋野浩一 - 学校法人常翔学园;株式会社ADEKA
  • 2021-10-11 - 2023-07-28 - A61K39/395
  • 本发明的目的在于提供一种能够将高分子量的化合物导入至细胞内的吸收促进剂。通过含有在侧链上具有本发明的通式(1)或通式(2)所表示的基团的高分子化合物、及分子量为1,000~1,200,000的给药化合物的组合物,能够解决所述技术问题,式(1)中,X1为从中性氨基酸或ω‑氨基链烷酸中去除了末端氨基及末端羧基的残基,X2为从细胞穿膜肽中去除了末端氨基及末端羧基的残基,X3为羟基、氨基、碳原子数为1~4的烷氧基或苄氧基,a为0~50的整数,*表示键合位置,式(2)中,X4为从中性氨基酸或ω‑氨基链烷酸中去除了末端氨基及末端羧基的残基,X5为从细胞穿膜肽中去除了末端氨基及末端羧基的残基,X6为氢原子、碳原子数为1~6的烷基、苄基、碳原子数为1~6的酰基、芳基磺酰基或氧基羰基,b为0~50的整数,*表示键合位置。
  • 组合
  • [发明专利]薄膜的制造方法-CN202180077618.6在审
  • 西田章浩;畑濑雅子;吉野智晴;大江佳毅;满井千瑛 - 株式会社ADEKA
  • 2021-11-16 - 2023-07-18 - H01L21/31
  • 本发明提供一种薄膜的制造方法,其是通过原子层沉积法在基体的表面制造含有锆原子的薄膜的方法,其包括以下工序:工序1:使将含有下述通式(1)表示的锆化合物的薄膜形成用原料气化而成的原料气体吸附在基体的表面而形成前体薄膜;工序2:排出未反应的原料气体;以及,工序3:在240℃以上450℃以下的温度下使所述前体薄膜与反应性气体反应而在所述基体的表面形成含有锆原子的薄膜。(式中,R1和R2各自独立地表示氢原子或碳数1~3的烷基,R3和R4各自独立地表示碳数1~3的烷基,但不包括R1和R2两者均为氢原子的锆化合物。)
  • 薄膜制造方法

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