[发明专利]有源矩阵基板、液晶显示面板及液晶显示面板的制造方法在审
申请号: | 201880006927.2 | 申请日: | 2018-01-11 |
公开(公告)号: | CN110178207A | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | 内田岁久 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L21/336 | 分类号: | H01L21/336;G02F1/1368;G09F9/00;G09F9/30;H01L21/8234;H01L27/088;H01L29/786 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝;刘宁军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种有源矩阵基板,具备:基板、支撑于基板的TFT、以及覆盖TFT的无机绝缘层。TFT具有:设置于基板上的栅极电极、覆盖栅极电极的栅极绝缘层、设置于栅极绝缘层上的氧化物半导体层、以及连接到氧化物半导体层的源极电极及漏极电极。栅极绝缘层包含第1氮化硅层和设置于第1氮化硅层上的第1氧化硅层。无机绝缘层包含第2氧化硅层和设置于第2氧化硅层上的第2氮化硅层。第1氮化硅层、第1氧化硅层、第2氧化硅层以及第2氮化硅层的厚度分别是275nm以上400nm以下、20nm以上80nm以下、200nm以上300nm以下、以及100nm以上200nm以下。 | ||
搜索关键词: | 氮化硅层 氧化硅层 栅极绝缘层 基板 氧化物半导体层 液晶显示面板 无机绝缘层 源矩阵基板 栅极电极 漏极电极 源极电极 覆盖 支撑 制造 | ||
【主权项】:
1.一种有源矩阵基板,具备:基板;多个薄膜晶体管,其支撑于上述基板;以及无机绝缘层,其覆盖上述多个薄膜晶体管,上述有源矩阵基板的特征在于,上述多个薄膜晶体管各自具有:栅极电极,其设置于上述基板上;栅极绝缘层,其覆盖上述栅极电极;氧化物半导体层,其设置于上述栅极绝缘层上,隔着上述栅极绝缘层与上述栅极电极相对;以及源极电极及漏极电极,其电连接到上述氧化物半导体层,上述栅极绝缘层包含第1氮化硅层和设置于上述第1氮化硅层上的第1氧化硅层,上述无机绝缘层包含第2氧化硅层和设置于上述第2氧化硅层上的第2氮化硅层,上述第1氮化硅层的厚度是275nm以上400nm以下,上述第1氧化硅层的厚度是20nm以上80nm以下,上述第2氧化硅层的厚度是200nm以上300nm以下,上述第2氮化硅层的厚度是100nm以上200nm以下。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造