[实用新型]一种半导体材料制备设备

摘要

本实用新型公开了半导体技术领域的一种半导体材料制备设备，包括透明反应罩，所述透明反应罩的顶端设有加料箱，所述加料箱内腔设有秤盘，所述秤盘的底端安装有挡板，所述透明反应罩的内腔底端设有两组液压杆，所述透明反应罩的右侧壁安装有高压主机，所述导料支架贯穿透明反应罩的左侧壁并伸入其内腔，且导料支架内腔设有导料管，所述导料管的一端连接备料箱，且导料管的另一端连接加料斗，所述电动伸缩杆的左端连接透明反应罩内腔左侧壁，本实用新型可满足不同的制备条件，能够对添加原料量加以控制，制备精度高，使用效果好。

主权项

1.一种半导体材料制备设备，包括透明反应罩(1)，其特征在于：所述透明反应罩(1)的顶端设有加料箱(2)，所述加料箱(2)内腔设有秤盘(3)，所述秤盘(3)的底端安装有挡板(32)，所述挡板(32)的右端连接气缸(31)，且挡板(32)的底端设有重量传感器(4)，所述重量传感器(4)与位于透明反应罩(1)左端的显示屏(23)电性连接，所述透明反应罩(1)的内腔底端设有两组液压杆(5)，两组所述液压杆(5)的顶端连接反应槽(6)，所述反应槽(6)的四周侧壁内腔设有加热装置(7)，且反应槽(6)的左端内侧壁上设有温度传感器(8)，所述温度传感器(8)与显示屏(23)电性连接，所述透明反应罩(1)的右侧壁安装有高压主机(9)，且透明反应罩(1)内腔右侧壁安装有真空泵(14)，所述高压主机(9)连接有贯穿透明反应罩(1)侧壁的管路(10)，所述管路(10)的末端连接冷雾化喷头(11)，所述高压主机(9)的顶端设有进气口(12)，且高压主机(9)的底端设有出气口(13)，所述透明反应罩(1)的左侧壁安装有惰性气体发生器(15)，所述惰性气体发生器(15)连接贯穿透明反应罩(1)左侧壁的进气管(16)，所述惰性气体发生器(15)的顶端安装有备料箱(17)，所述备料箱(17)的底端连接导料支架(18)，所述导料支架(18)贯穿透明反应罩(1)的左侧壁并伸入其内腔，且导料支架(18)内腔设有导料管(24)，所述导料管(24)的一端连接备料箱(17)，且导料管(24)的另一端连接加料斗(19)，所述加料斗(19)的左端连接吸风机(25)，且加料斗(19)的底端连接电动阀门(21)，所述电动阀门(21)的底端连接出料管(20)，所述吸风机(25)的左端连接电动伸缩杆(22)，所述电动伸缩杆(22)的左端连接透明反应罩(1)内腔左侧壁。