[实用新型]一种半导体材料制备设备有效
申请号: | 201821014778.8 | 申请日: | 2018-06-28 |
公开(公告)号: | CN208315517U | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 杨癸;马东伟;张静 | 申请(专利权)人: | 安阳师范学院 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 俞晓明 |
地址: | 455000 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 反应罩 透明 导料管 半导体材料 本实用新型 导料支架 一端连接 制备设备 左侧壁 秤盘 内腔 半导体技术领域 电动伸缩杆 高压主机 内腔底端 制备条件 挡板 加料 备料箱 加料斗 加料箱 箱内腔 液压杆 右侧壁 原料量 底端 两组 伸入 左端 制备 贯穿 | ||
1.一种半导体材料制备设备,包括透明反应罩(1),其特征在于:所述透明反应罩(1)的顶端设有加料箱(2),所述加料箱(2)内腔设有秤盘(3),所述秤盘(3)的底端安装有挡板(32),所述挡板(32)的右端连接气缸(31),且挡板(32)的底端设有重量传感器(4),所述重量传感器(4)与位于透明反应罩(1)左端的显示屏(23)电性连接,所述透明反应罩(1)的内腔底端设有两组液压杆(5),两组所述液压杆(5)的顶端连接反应槽(6),所述反应槽(6)的四周侧壁内腔设有加热装置(7),且反应槽(6)的左端内侧壁上设有温度传感器(8),所述温度传感器(8)与显示屏(23)电性连接,所述透明反应罩(1)的右侧壁安装有高压主机(9),且透明反应罩(1)内腔右侧壁安装有真空泵(14),所述高压主机(9)连接有贯穿透明反应罩(1)侧壁的管路(10),所述管路(10)的末端连接冷雾化喷头(11),所述高压主机(9)的顶端设有进气口(12),且高压主机(9)的底端设有出气口(13),所述透明反应罩(1)的左侧壁安装有惰性气体发生器(15),所述惰性气体发生器(15)连接贯穿透明反应罩(1)左侧壁的进气管(16),所述惰性气体发生器(15)的顶端安装有备料箱(17),所述备料箱(17)的底端连接导料支架(18),所述导料支架(18)贯穿透明反应罩(1)的左侧壁并伸入其内腔,且导料支架(18)内腔设有导料管(24),所述导料管(24)的一端连接备料箱(17),且导料管(24)的另一端连接加料斗(19),所述加料斗(19)的左端连接吸风机(25),且加料斗(19)的底端连接电动阀门(21),所述电动阀门(21)的底端连接出料管(20),所述吸风机(25)的左端连接电动伸缩杆(22),所述电动伸缩杆(22)的左端连接透明反应罩(1)内腔左侧壁。
2.根据权利要求1所述的一种半导体材料制备设备,其特征在于:所述透明反应罩(1)的顶端设有与加料箱(2)底端出口相适配的加料口,所述加料箱(2)的内腔设有进料斗,所述进料斗的出料口正对秤盘(3)的上方。
3.根据权利要求1所述的一种半导体材料制备设备,其特征在于:所述加料斗(19)的侧壁均匀设有刻度线,所述吸风机(25)的进风口设有挡网,所述挡网的孔径小于待制备原料的直径。
4.根据权利要求1所述的一种半导体材料制备设备,其特征在于:所述加热装置(7)包括均匀铺设在反应槽(6)侧壁内腔加热板(71),所述加热板(71)中设有电阻丝(72)组成的加热元件,所述加热板(71)内腔加热管的两端连接有电源(73)。
5.根据权利要求1所述的一种半导体材料制备设备,其特征在于:所述电动伸缩杆(22)在透明反应罩(1)侧壁上的位置高于反应槽(6)的最低位置。
6.根据权利要求1所述的一种半导体材料制备设备,其特征在于:所述重量传感器(4)的型号为QS-A-50t,所述温度传感器(8)的型号为DS18b2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安阳师范学院,未经安阳师范学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821014778.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:晶圆清洗装置
- 下一篇:一种制结泵加热硅舟扩散炉
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造