[发明专利]半导体结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201811106664.0 申请日: 2018-09-21
公开(公告)号: CN109599391B 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 周仲彦 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/01 分类号: H01L27/01;H01L23/66;H10N97/00;H01L23/528;H01L21/768
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 蒋林清
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明实施例涉及一种半导体结构及其制造方法。本发明实施例的一种半导体结构包含电容器,所述电容器包含第一电极和安置于所述第一电极上方且与所述第一电极电绝缘的第二电极。所述半导体结构还包含延伸穿过所述第一电极且接触所述第一电极的平坦表面的第一导电通路。所述半导体结构进一步包含延伸穿过所述第二电极且接触所述第二电极的平坦表面的第二导电通路。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体结构,其包括:电容器,其包括第一电极和安置于所述第一电极上方且与所述第一电极电绝缘的第二电极;第一导电通路,其延伸穿过所述第一电极且接触所述第一电极的平坦表面;和第二导电通路,其延伸穿过所述第二电极且接触所述第二电极的平坦表面。
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