[发明专利]TFT阵列基底、包括其的显示装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810605594.7 申请日: 2018-06-13
公开(公告)号: CN109087920A 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 秋秉权;裵俊和;赵玹辰;千俊赫;尹智莲;曹雨辰;崔成焕;崔贞惠 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/28;H01L29/423;H01L27/32
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 尹淑梅;刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种薄膜晶体管(TFT)阵列基底、包括其的显示装置及制造其的方法。该TFT阵列基底包括基础基底、设置在基础基底上的半导体层、设置在半导体层上的绝缘层以及设置在绝缘层上的栅电极。绝缘层的在基础基底的平面图中与半导体层叠置的部分的顶表面同栅电极的顶表面被设置在同一水平上。
搜索关键词: 基底 绝缘层 半导体层 显示装置 顶表面 栅电极 薄膜晶体管 同一水平 半导体 制造
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管阵列基底,所述薄膜晶体管阵列基底包括:基础基底;半导体层,设置在所述基础基底上;绝缘层,设置在所述半导体层上;以及栅电极,设置在所述绝缘层上,其中,所述绝缘层的在所述基础基底的平面图中与所述半导体层叠置的部分的顶表面同所述栅电极的顶表面被设置在同一水平上。
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