[发明专利]一种金属纳米颗粒点阵及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201810282370.7 | 申请日： | 2018-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN110342457A | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 杨智唤;孙继荣;陈沅沙;胡凤霞;沈保根 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82B1/00;B82Y40/00;B82Y10/00;B82Y15/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 郭广迅;赵岩 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属纳米颗粒点阵及其制备方法和应用，其制备方法包括如下步骤：(1)制备平面三明治结构单元，所述平面三明治结构单元包括活性金属膜电极、导电膜电极以及位于所述活性金属膜电极与导电膜电极之间的绝缘材料膜；(2)制备金属纳米颗粒点阵，在步骤(1)所述的活性金属膜电极与导电膜电极之间施加电压，从而在所述绝缘材料膜的表面形成金属纳米颗粒点阵。本发明提供的制备金属纳米颗粒点阵的方法具有可精确定位点阵加工区域、简单易控并且与微加工工艺兼容的优点，是一种具有良好应用潜力的制备方法，在介观体系的电输运性质的研究、传感器、信息存储等领域具有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 点阵 导电膜电极 金属膜电极 制备 制备方法和应用 金属纳米颗粒 制备金属纳米 绝缘材料膜 三明治结构 表面形成金属 电输运性质 微加工工艺 加工区域 纳米颗粒 施加电压 信息存储 应用潜力 传感器 兼容 应用 研究 | ||
【主权项】：
1.一种金属纳米颗粒点阵的制备方法，包括如下步骤：(1)制备平面三明治结构单元，所述平面三明治结构单元包括活性金属膜电极、导电膜电极以及位于所述活性金属膜电极与导电膜电极之间的绝缘材料膜；(2)制备金属纳米颗粒点阵，在步骤(1)所述的活性金属膜电极与导电膜电极之间施加电压，从而在所述绝缘材料膜的表面形成金属纳米颗粒点阵。
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- 哈希姆·阿哈万·塔夫提;王国平;巴里·A·舍恩费尔纳 - 阿弗拉科技有限责任公司
- 2017-06-15 - 2019-06-18 - B82B3/00
- 本申请提出了一种用于储存和按需释放纳米微粒的方法。通过该方法生产的纳米微粒可被干燥并储存更长时间，随后按需释放在所选溶剂中，以形成稳定的悬浮液，而不需要额外的表面活性剂或稳定剂，并且没有任何功能或材料性能的损失。该方法可用于储存各类纳米材料，包括金属、金属氧化物、金属硫族化合物、磁性纳米微粒、聚合纳米微粒和半导体纳米微粒。
- 疏水制品-201580009952.2
- 刘俊英;威廉·詹姆斯·舒尔茨 - 美国陶氏有机硅公司
- 2015-04-07 - 2019-06-18 - B82B3/00
- 本发明提供了一种疏水制品，所述疏水制品包括基板和纳米粒子层，所述纳米粒子层设置在所述基板上并包含纳米粒子团聚体，其中如按照ISO 13320使用光散射测定的，所述纳米粒子团聚体具有至少100纳米的基于平均体积的尺寸。所述疏水制品还包括粘结剂层和最外层，所述粘结剂层设置在所述纳米粒子层上并与所述纳米粒子层直接接触，并且包含硅基树脂的氧化固化产物，而所述最外层与所述基板相对地设置且在所述粘结剂层上并与所述粘结剂层直接接触。如在所述疏水制品的所述最外层上测量并使用经修改的ASTM D5946‑04测定的，所述疏水制品具有大于或等于90度的水接触角。
- 一种在任意基底上大面积、多样化有机模板的制造方法-201910122379.6
- 刘广强;张鹏;李越;蔡伟平 - 中国科学院合肥物质科学研究院
- 2019-02-19 - 2019-06-14 - B82B3/00
- 本发明公开了一种在任意基底上大面积、多样化有机模板的制造方法，通过等离子体轰击的方法，制造出球形非密排有机胶体模板；通过热处理与等离子体轰击相结合的方法，制造出六方形非密排有机胶体模板；通过模板转移‑叠合与等离子体轰击相结合的策略，制造出双层非密排有机胶体模板；将所合成的三种有机胶体模板，通过无损转移的方法，转移到任何指定基底上。可以为按需(设计)构筑纳米器件提供所需的模板。
- 一种二元过渡金属氧化物薄膜纳米图形加工方法-201910148197.6
- 燕少安;王冬;龚俊;王海龙 - 湘潭大学
- 2019-02-28 - 2019-06-14 - B82B3/00
- 本发明公开了一种二元过渡金属氧化物薄膜纳米图形加工方法。该方法通过对导电原子力显微镜(C‑AFM)探针针尖施加一定的直流偏压，使二元过渡金属氧化物薄膜在与探针接触的界面处产生离子电化学反应，通过控制偏压的幅值、施加次数和针尖作用区域及扫描次数，实现对二元过渡金属氧化物薄膜不同形状的纳米图形加工。本发明不但具有纳米级加工精度、加工流程简便、超低能耗、无污染、不需要掩膜版等优点，并且本发明的方法降低了对探针针尖的物理损伤。
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