[发明专利]半导体器件及其封装方法有效
申请号: | 201810276019.7 | 申请日: | 2018-03-30 |
公开(公告)号: | CN108493122B | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 揭丽平;周福鸣;赵清清;朱贤龙 | 申请(专利权)人: | 深圳赛意法微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/48;H01L23/498;H01L23/482 |
代理公司: | 44232 深圳市隆天联鼎知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘抗美<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种半导体器件及其封装方法。封装方法包括:镀金属层过程:提供芯片和衬底,在芯片的其中一面镀上金属层,在衬底上与芯片预粘合的区域镀上金属层;预烧结过程:利用低温低压烧结工艺,将金属薄膜与芯片的金属层、衬底的金属层预烧结在一起;金属薄膜、芯片的金属层和衬底的金属层的金属为同一金属;烧结过程:利用高温高压烧结工艺,烧结由芯片、金属薄膜和衬底预烧结而成的整体;引线封装过程:将烧结完成的芯片、金属薄膜和衬底连接至引线框架上;模封切筋过程:进行模封,并对模封后的引线框架进行切筋,以得到半导体器件封装结构。 | ||
搜索关键词: | 衬底 芯片 金属薄膜 金属层 预烧结 封装 半导体器件 上金属层 烧结工艺 引线框架 烧结 模封 切筋 半导体器件封装 金属 低温低压 镀金属层 高温高压 烧结过程 引线封装 粘合 对模 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件的封装方法,其特征在于,包括:/n镀金属层过程:提供芯片和衬底,在所述芯片的其中一面镀上金属层,在所述衬底上与所述芯片预粘合的区域镀上金属层;/n预烧结过程:利用低温低压烧结工艺,将金属薄膜与所述芯片的金属层、所述衬底的金属层预烧结在一起,使所述芯片、所述金属薄膜和所述衬底联合成一个整体,所述金属薄膜、所述芯片的金属层和所述衬底的金属层由同一种金属材料形成;所述预烧结的烧结温度为100度~150度,烧结压力为3Mpa~5Mpa;/n烧结过程:利用高温高压烧结工艺,烧结由所述芯片、所述金属薄膜和所述衬底预烧结而成的整体;所述烧结过程在上模具和下模具中进行,所述上模具和所述下模具对由所述芯片、所述金属薄膜和所述衬底预烧结而成的整体进行施压和加热;所述上模具和所述下模具施加的压力大于15Mpa,加热的温度为200度~300度;/n引线封装过程:将烧结完成的所述芯片、所述金属薄膜和所述衬底连接至引线框架上;/n模封切筋过程:利用模封工艺对所述芯片、所述金属薄膜、所述衬底和所述引线框架进行模封,并对模封后的引线框架进行切筋,以得到半导体器件封装结构。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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