[发明专利]内牺牲间隔件的互连在审
| 申请号： | 201710545429.2 | 申请日： | 2017-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN107591389A | 公开（公告）日： | 2018-01-16 |
| 发明（设计）人： | 孙志国;方强;苏拉·K·帕特尔;舒杰辉 | 申请（专利权）人： | 格罗方德半导体公司 |
| 主分类号： | H01L23/538 | 分类号： | H01L23/538;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司11314 | 代理人： | 程伟,王锦阳 |
| 地址： | 英属开曼群*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及内牺牲间隔件的互连，其揭示互连结构以及形成该互连结构的方法。一间隔件形成于一介电层中的一开口内。于形成该间隔件之后，一导电柱塞形成于该介电层中的该开口内。于形成该导电柱塞后，移除该间隔件以定义位于该介电层中的该开口内的一空气间隙。该空气间隙位于该导电柱塞与该介电层中的该开口之间。 | ||
| 搜索关键词： | 牺牲 间隔 互连 | ||
【主权项】：
一种互连结构，其特征在于，该互连结构包括：一第一介电层，其包括一开口；一导电柱塞，位于该第一介电层的该开口内；以及一空气间隙，其位于该第一介电层中的该开口内在该导电柱塞与该第一介电层中的该开口之间的一位置处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格罗方德半导体公司，未经格罗方德半导体公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710545429.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种红薯葡萄酒及其制备方法
- 下一篇：一种家用葡萄酒发酵罐
