[发明专利]一种半导体光探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710264851.0 申请日: 2017-04-21
公开(公告)号: CN107221571A 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 汪莱;郑纪元;吴星曌;郝智彪;罗毅 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/109;H01L31/18
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 代理人: 张建纲
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种半导体光探测器及其制备方法,包括该探测器为pipin结构,在衬底上依次包括n型层、i型倍增层、p型电荷层、i型光敏吸收层、p型滤光层;n型层上设置有n型欧姆电极,p型滤光层上设置有p型欧姆电极;所述p型滤光层和n型层构成pn结;所述p型滤光层和i型光敏吸收层为异质结;其中,所述p型滤光层禁带宽度大于所述i型光敏吸收层的禁带宽度;且所述p型滤光层为接收入射光的结构层。正是由于p型滤光层和i型光敏吸收层为异质结,可以构成一个滤波窗口,故只有符合波长要求的光被吸收层吸收,产生载流子,从而大大增强半导体光敏探测器的波长选择性。
搜索关键词: 一种 半导体 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种半导体光探测器,其特征在于,该探测器为pipin结构,在衬底上依次包括:n型层、i型倍增层、p型电荷层、i型光敏吸收层、p型滤光层;n型层上设置有n型欧姆电极,p型滤光层上设置有p型欧姆电极;所述p型滤光层和n型层构成pn结;所述p型滤光层和i型光敏吸收层为异质结;其中,所述p型滤光层禁带宽度大于所述i型光敏吸收层的禁带宽度;且所述p型滤光层为接收入射光的结构层。
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