[发明专利]一种智能玻璃阳极电致变色层镀膜材料的制备方法在审
| 申请号： | 201710211153.4 | 申请日： | 2017-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN108658474A | 公开（公告）日： | 2018-10-16 |
| 发明（设计）人： | 黄信二 | 申请（专利权）人： | 深圳市景创科技电子有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/245 | 分类号： | C03C17/245;C23C14/34;C23C14/08;C04B35/01;C04B35/64;B28B1/26 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 谈杰 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西乡街道洲*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种智能玻璃阳极电致变色层镀膜材料的制备方法，使用注浆成型加真空高温烧结的方式来制作相关靶材，藉由高温烧结过程中真空处理及添加第二种元素在氧化镍中，造成氧的空缺产生电载子移动性来提高材料的导电性，提高靶材均匀性及致密度，大幅降低溅镀过程中异常电弧的产生，延长靶材寿命及利用率，提高溅镀薄膜质量及性能。溅镀时使用脉冲DC,AC或是MF等电源可以获得稳定的溅镀电弧,溅镀过程中只需通入少量的氧气,不易造成落尘,同时采用阶段升温烧结的工艺及在氩气中添加其他气体，溅镀成膜速率可以提高5‑10倍左右,并提高薄膜的平坦度及大面积的均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 溅镀 电致变色层 阳极 镀膜材料 智能玻璃 制备 薄膜 高温烧结过程 真空高温烧结 导电性 电弧 靶材均匀性 氩气 靶材寿命 阶段升温 异常电弧 真空处理 注浆成型 烧结 电载子 均匀度 平坦度 氧化镍 移动性 脉冲 靶材 成膜 落尘 氧气 电源 空缺 制作 | ||
【主权项】：
1.一种智能玻璃阳极电致变色层镀膜材料的制备方法，其特征为：使用纯氧化镍粉末，再添加68wt％的氧化锆球、30wt％的纯水及2wt％的分散剂,研磨混合充分，时间24‑48小时，形成的浆料灌入三寸的多孔性模具中，经过24小时的干燥后,脱膜形成氧化物的低密度胚体，然后在真空烧结炉中经过1100‑1500℃的3‑6小时烧结，真空度400‑4000mmHg，形成溅镀用高密度靶材胚体，经切割与表面研磨成三寸靶材；接着把所需镀着玻璃基材放入溅镀腔体中，以真空抽气系统将溅镀腔体背景压力抽至0.7×10‑5‑0.9×10‑5torr后，通入氩气和氧气的混合气体，混合气体中氧气的体积比为2‑5％，透过节流阀将通入混合气体控制溅镀腔体的工作压力为3‑5×10‑3torr，以MF电源功率150‑250瓦进行溅镀制程，制得100‑350nm的透明氧化物薄膜。
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- 一种常压化学气相沉积法制备氧化锌基透明导电膜玻璃的方法，包括如下步骤：(1)将玻璃板加热到预先设定好的温度；(2)使用反应性气体前驱物在所述玻璃板表面先后快速均匀沉积中间层薄膜和透明导电层薄膜；并且(3)将镀完膜的所述玻璃板进行冷却退火，所述退火的温度设定在一个渐变梯度范围。根据本发明实施例的常压化学气相沉积法制备氧化锌基透明导电膜玻璃的方法，设备及原料成本低，易于操作，便于工业化大批量生产。本发明采用合适的前驱物在移动的热玻璃表面沉积了氧化锌基掺杂透明导电氧化物薄膜，得到的透明导电膜具有高透过率、高电导率的特点，在薄膜太阳能电池中应用极广。
- low-E玻璃离线生产方法-201510467786.2
- 薛辉;昌江;任俊春;金海涛 - 芜湖真空科技有限公司
- 2015-07-31 - 2015-11-25 - C03C17/245
- 本发明公开了一种low-E玻璃离线生产方法，该方法包括：步骤1，将原玻璃竖直设置于压强为0.1-0.6Pa区间的真空环境中；步骤2，在所述真空环境中通入工艺气体，并保持真空环境的压强在0.1-0.6Pa区间之内；步骤3，将磁控靶置于真空环境中，且电连接于高电压的阴极，所述磁控靶朝向原玻璃的外表面；步骤4，多个磁控靶在与原玻璃的间隔距离不变的平面上做匀速运动。该low-E玻璃离线生产方法克服了现有技术中的玻璃表面很容易氧化的问题，实现了防氧化的处理。
- 玻璃生产系统-201510468109.2
- 薛辉;昌江;任俊春;金海涛 - 芜湖真空科技有限公司
- 2015-07-31 - 2015-11-25 - C03C17/245
- 本发明公开了一种玻璃生产系统，该玻璃生产系统包括沿所述玻璃的运输方向上依次连通且密封的以下设备：原料炉，所述原料炉用于装载原始材料；熔窑，所述熔窑用于对原始材料进行加热；锡槽，所述锡槽对加热之后的原始材料进行在线镀膜；退窑，所述退窑对镀完膜的原始材料降温。该玻璃生产系统克服了现有技术生产出的玻璃容易被氧化，质量会下降的问题，实现了更好地镀膜。
- 一种磁控溅射制备大面积稳定型ZrO2薄膜的方法-201510290976.1
- 付亚东;方志坚;杨桂祥;耿振搏;李亚娟;张得全;柴媛;王煥钧 - 天津耀皮工程玻璃有限公司
- 2015-05-29 - 2015-09-30 - C03C17/245
- 本发明提供了一种磁控溅射制备大面积稳定型ZrO2薄膜的方法，在制备无背管圆形旋转掺杂金属Zr靶时，在其中掺杂元素为Y、Nb、La、Ce、Mg中的一种或几种，且掺杂比例为6％wt到13％wt之间；并利用磁控溅射镀膜设备，设定合适的电源参数，在特定比例的Ar、O2气氛下制备得到预想结构及厚度的大面积稳定型ZrO2膜层。本发明所述的方法简单易行，得到的膜层性能稳定，与现有Low-E膜层结合力强，并能显著提高现有Low_E膜层的可加工性、抗氧化性，很好地阻止了钢化后膜层已有裂纹的扩展行为。
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