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- [发明专利]真空处理装置、真空处理方法-CN200980130821.4无效
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饭岛荣一;池田裕人;箱守宗人
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株式会社爱发科
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2009-08-04
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2011-06-29
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C23C14/24
- 提供一种具有不需要大型的真空排气装置的脱气室的真空处理装置。在脱气室内对处理对象物进行加热脱气，经由缓冲室运入处理室内并进行真空处理时，脱气室与排气速度小的真空排气系统连接，在1～100Pa的真空环境下进行脱气处理(时刻0～t2)，接着令处理对象物向缓冲室移动，令缓冲室内的压力降低到与处理室内的压力相同程度(时刻t2～t3)，将缓冲室与处理室连接，将处理对象物运入处理室内。若比较压力变化的推移，将利用排气速度大的真空排气装置将脱气室形成为高真空环境的现有技术的情况(曲线组B)和本发明的情况(曲线组A)相比，处理时间没有差别。
- 真空处理装置方法
- [实用新型]真空等离子表面处理机-CN202223387668.5有效
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赖福业;罗富峰
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深圳子柒科技有限公司
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2022-12-16
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2023-03-21
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B08B7/00
- 本实用新型提供了真空等离子表面处理机。该真空等离子表面处理机包括机架、真空处理箱、用于为所述真空处理箱提供真空环境的抽真空组件、真空电极、用于为所述真空处理箱内通入气体的通气组件、多个电源放电极、多个放电极板和多个用于放置待处理产品的产品放置板，真空处理箱安装在所述机架内，抽真空组件安装在机架内，且抽真空组件的输出端与所述真空处理箱连接，所述真空电极安装在所述真空处理箱一侧，通气组件安装在所述真空处理箱一侧，多个电源放电极安装在所述真空处理箱内，本实用新型的真空等离子表面处理机生产成本低，装置简单，易操作维修，可连续运行，同时，能够稳定且高效低对待处理产品表面进行处理。
- 真空等离子表面处理机
- [发明专利]真空处理方法及真空处理装置-CN201510845151.1在审
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津田英司
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株式会社仲氏液控
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2015-11-26
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2016-04-13
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C23C14/56
- 本发明提供了以简单结构实现高气密性的真空处理方法和真空处理装置。所述真空处理方法从可开闭的工件搬入口将工件依次搬入真空容器内，并沿设定为真空状态的真空容器内的工件搬送通路搬送工件后，从可开闭的工件搬出口将工件依次搬出真空容器外，其特征在于，当设置有搬送通路的搬送通路室以及设置在真空容器内与搬送通路室连通的工件的待避室在搬入口和搬出口敞开前设定为真空状态时，使搬送通路上的工件移动到待避室内并将待避室的出入口封闭成气密状态，在从打开的搬入口和搬出口执行工件的搬出搬入后，封闭搬入口和搬出口并在搬送通路室设定为真空状态时，打开待避室的出入口并将待避室内的工件返回到搬送通路上
- 真空处理方法装置
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