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[发明专利]薄层的沉积方法和获得的产品-CN201810153647.6在审
发明人： V.雷蒙;A.卡申科;N.纳多 -专利权人：法国圣戈班玻璃厂
申请日： 2010-06-11 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本发明涉及薄层的沉积方法和获得的产品，尤其用于获得在至少一个面上用低发射率薄层堆叠体覆盖的基材的方法，包括以下步骤：在所述基材的所述至少一个面上沉积在两个薄介电层之间包括至少一个薄银层的薄层堆叠体；和使用至少一种在500至2000nm的至少一个波长发射的激光辐射热处理该至少一个被覆盖面使得该堆叠体的发射率和/或表面电阻减少了至少5%；根据本发明，在处理之前，该堆叠体包括至少一个至少部分吸收激光辐射的层，以便所述堆叠体在该激光辐射的至少一个波长的吸收使得用所述堆叠体覆盖的4mm厚的明玻璃基材在该激光辐射的所述至少一个波长的吸收大于或等于10%。
堆叠体激光辐射薄层波长沉积基材吸收热处理薄介电层表面电阻玻璃基材低发射率发射率覆盖面薄银覆盖发射

[发明专利]用于制备包含多孔层的窗玻璃的方法-CN201280029458.9有效
发明人： A.卡申科;J-P.鲁索;A.容;C.B.佩特森 -专利权人：法国圣戈班玻璃厂
申请日： 2012-06-15 - 公布日： 2017-08-15 - 主分类号： C03C17/245 文献下载
摘要：本发明涉及用于制备包含基材，特别地玻璃基材的窗玻璃的方法，该基材被提供有包含至少一个由多孔材料组成的层的涂层，特别地其中该由多孔材料组成的层的折光指数因此由此被降低，该方法包括以下步骤经由在真空腔室中物理气相沉积方法PVD在基材上沉积涂层，该涂层包括含至少一种选自Si、Ti、Sn、Al、Zr、In的元素或者这些元素的至少两种的混合物，氧和碳的材料的层，所述层任选地还包含氢；在能够除去至少一部分碳和获得所述多孔材料层的条件下，热处理如此沉积的层，所述方法特征在于在所述腔室中行进的基材上通过碳靶的阴极溅射在包含所述一种或多种元素的至少一种前体的反应性，优选氧化性等离子体气氛中进行实施所述沉积。
用于制备包含多孔窗玻璃方法

[发明专利]通过使用牺牲层获得涂覆有功能层的基底的方法-CN201580030119.6在审
发明人： A.卡申科;B.尼姆;N.纳多;L.卡诺瓦;A.于尼亚尔 -专利权人：法国圣戈班玻璃厂
申请日： 2015-06-02 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： C03C17/23 文献下载
摘要：本发明涉及获得包含基底的材料的方法，所述基底在其至少一个面的至少一部分上涂覆有至少一个功能层，所述方法包括‑ 沉积该或各功能层的步骤，随后‑ 在所述至少一个功能层上沉积牺牲层的步骤，随后‑ 通过选自激光辐射或来自至少一个闪光灯的辐射的辐射进行热处理的步骤，所述辐射具有至少一个200至2500纳米的处理波长，所述牺牲层在热处理步骤过程中与空气接触，随后‑ 使用溶剂除去该牺牲层的步骤,所述牺牲层是单层，并使得在热处理之前，其能够吸收至少一部分在至少一个处理波长处的所述辐射，并在热处理之后，其能够通过溶剂和/或分散在所述溶剂中来除去。
通过使用牺牲获得涂覆有功能基底方法

[发明专利]沉积薄层的方法和获得的产品-CN201210359480.1有效
发明人： N.纳道;A.卡申科;U.希勒特;R.吉 -专利权人：法国圣戈班玻璃厂
申请日： 2008-01-04 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： C03C17/245 文献下载
摘要：本发明的一个主题是一种处理至少一个被沉积在基材的第一个面上的连续的薄层的方法，其特征在于将所述至少一个薄层升高到至少300°C的温度同时在所述基材的与所述第一个面的相对的面上保持温度小于或等于150°C，以便提高所述薄层的结晶度，同时保持其连续并且没有熔化所述薄层的步骤。本发明的又一主题是可以通过这样的方法获得的材料。
沉积薄层方法获得产品

[发明专利]沉积薄层的方法和获得的产品-CN201210358647.2有效
发明人： N.纳道;A.卡申科;U.希勒特;R.吉 -专利权人：法国圣戈班玻璃厂
申请日： 2008-01-04 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： C03C17/06 文献下载
摘要：本发明的一个主题是一种处理至少一个被沉积在基材的第一个面上的连续的薄层的方法，其特征在于将所述至少一个薄层升高到至少300°C的温度同时在所述基材的与所述第一个面的相对的面上保持温度小于或等于150°C，以便提高所述薄层的结晶度，同时保持其连续并且没有熔化所述薄层的步骤。本发明的又一主题是可以通过这样的方法获得的材料。
沉积薄层方法获得产品

[发明专利]薄层的沉积方法和获得的产品-CN201080025936.X在审
发明人： V.雷蒙;A.卡申科;N.纳多 -专利权人：法国圣戈班玻璃厂
申请日： 2010-06-11 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本发明涉及用于获得在至少一个面上用低发射率薄层堆叠体覆盖的基材的方法，包括以下步骤：在所述基材的所述至少一个面上沉积在两个薄介质层之间包括至少一个薄银层的薄层堆叠体；和使用至少一种在500至2000nm的至少一个波长发射的激光辐射热处理该至少一个被覆盖面使得该堆叠体的发射率和/或表面电阻减少了至少5%；根据本发明，在处理之前，该堆叠体包括至少一个至少部分吸收激光辐射的层，以便所述堆叠体在该激光辐射的至少一个波长的吸收使得用所述堆叠体覆盖的4mm厚的明玻璃基材在该激光辐射的所述至少一个波长的吸收大于或等于10%。
薄层沉积方法获得产品

[发明专利]薄层沉积方法-CN201080044800.3有效
发明人： A.卡申科;A.迪朗多;N.纳多 -专利权人：法国圣戈班玻璃厂
申请日： 2010-09-30 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于获得一种基材的方法，这种基材在它的至少一部分表面上涂覆有至少一个金属M的氧化物层，该氧化物层的物理厚度小于或等于30nm，所述氧化物层不被包括在含至少一个银层的层堆叠体中。所述方法包括以下步骤：通过阴极溅射沉积至少一个由选自以下的材料制成的中间层：金属M、金属M氮化物、金属M碳化物和金属M的亚化学计量氧的氧化物，所述中间层不沉积在基于二氧化钛的层的上面或者下面，所述中间层的物理厚度小于或等于30nm；使用热处理氧化所述中间层的至少一部分表面，在该热处理期间使所述中间层与氧化性气氛，特别地与空气直接接触，在所述热处理期间所述基材的温度不超过150℃。
薄层沉积方法