[发明专利]碳化硅单晶的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710136891.7 申请日: 2017-03-09
公开(公告)号: CN106894089B 公开(公告)日: 2018-03-09
发明(设计)人: 张岩;赵然;马鹏翔;赵子强;孙建;李晋;陈菲菲;谷元中;梁浩;邓晓妍;王浩然 申请(专利权)人: 中科钢研节能科技有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B23/00
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司11283 代理人: 严政,陈静
地址: 100081 北京市海淀区大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及碳化硅单晶制备领域,公开了一种碳化硅单晶的制备方法,包括将装有碳化硅原料的坩埚放入长晶炉中,加热碳化硅原料使其升华而在籽晶上进行再结晶,将晶体冷却,得到碳化硅单晶,其中,所述加热方式为以下依次进行的阶段(1)在温度为1200‑1300℃、压力为550‑650托的条件下维持10‑20min;(2)压力为550‑650,将温度升至2100‑2200℃;(3)将压力降为350‑450托,并维持20‑40min;(4)将压力降为1‑2托,并维持30‑40h;(5)将压力升至350‑450托,并维持20‑40min;(6)将压力升至550‑650托。该方法能得到大尺寸且高质量的碳化硅单晶。
搜索关键词: 碳化硅 制备 方法
【主权项】:
一种碳化硅单晶的制备方法,该制备方法包括:将装有碳化硅原料的坩埚放入长晶炉中,加热所述坩埚中的碳化硅原料使其升华从而在籽晶上进行再结晶,将结晶后形成的晶体冷却,得到碳化硅单晶,其特征在于,所述加热的方式为依次进行以下阶段:(1)第一阶段:在温度为1200‑1300℃、压力为550‑650托的条件下维持10‑20min;(2)第二阶段:压力为550‑650托,将温度升至2100‑2200℃;(3)第三阶段:温度为2100‑2200℃,将压力降为350‑450托,并维持20‑40min;(4)第四阶段:温度为2100‑2200℃,将压力降为1‑2托,并维持30‑40h;(5)第五阶段:温度为2100‑2200℃,将压力升至350‑450托,并维持20‑40min;(6)第六阶段:温度为2100‑2200℃,将压力升至550‑650托;所述温度为所述坩埚内上部的气态碳化硅原料的温度。
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