[发明专利]一种功能图形的制作方法、阵列基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201611056244.7 申请日: 2016-11-22
公开(公告)号: CN106548978B 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 班圣光;姚琪;薛大鹏;路达 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种功能图形的制作方法、阵列基板及显示装置,涉及显示领域。其中,制作方法包括:在衬底基板上形成具有凹槽结构的基层,所述凹槽结构的形状对应待形成的功能图形的形状;将用于形成功能图形的流变性材料填充至所述凹槽结构;固化所述凹槽结构中的流变性材料,得到功能图形;去除所述基层。本发明可以直接沉积出具有图形化的流变性材料,在流变性材料固化后即可作为功能图形,相比于现有技术,不需要再对功能图形进行刻蚀,因此简化了制作工序,从而提高制作效率,并降低制作成本。
搜索关键词: 一种 功能 图形 制作方法 阵列 显示装置
【主权项】:
1.一种功能图形的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成具有凹槽结构的基层,所述凹槽结构的形状对应待形成的功能图形的形状;将用于形成功能图形的流变性材料填充至所述凹槽结构;通过加热方式,固化所述凹槽结构中的流变性材料,得到功能图形;其中,所述基层在固化过程中受热挥发,从而被去除;所述通过加热方式,固化所述凹槽结构中流变性材料,得到功能图形的步骤包括:在将用于形成功能图形的流变性材料填充至所述凹槽结构后,将所述衬底基板在48℃‑52℃的温度下进行隔绝空气保存,直到所述流变性材料底部沉积形成氮化碳的前驱体,所述前驱体为固态;去除流变性材料中的液体部分,保留所述前驱体;对所述前驱体进行加热,从而使所述前驱体转变为氮化碳,所述氮化碳作为所述功能图形的材料。
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