[发明专利]半导体装置及半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201610921780.2 申请日: 2016-10-21
公开(公告)号: CN107039408B 公开(公告)日: 2020-01-07
发明(设计)人: 田畑光晴 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/488;H01L21/60;H01L21/607
代理公司: 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本说明书公开的技术涉及能够对导线键合作业的制约进行抑制的半导体装置及半导体装置的制造方法。本技术涉及的半导体装置具有:多个半导体芯片(104),它们在俯视观察时由外框(102)所包围的壳体内配置于电路图案之上;以及键合导线(103),其将电路图案与多个半导体芯片(104)之间电连接,多个半导体芯片(104)沿壳体的长边方向而排列,键合导线(103)沿壳体的长边方向而架设。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,其具有:/n多个半导体芯片,它们在俯视观察时由外框所包围的壳体内配置于电路图案之上;/n键合导线,其将所述电路图案与多个所述半导体芯片之间电连接;以及/n主电极,其配置于所述壳体内,/n多个所述半导体芯片沿所述壳体的长边方向而排列,/n所述键合导线沿所述壳体的长边方向而架设,/n所述主电极配置于所述壳体的长边方向的一个边的附近,/n所述主电极与所述电路图案之间的连接为超声波接合、焊接、或者钎焊,/n所述电路图案由厚度大于或等于0.4mm的铜箔构成,/n所述半导体装置具有2个将2个所述半导体芯片反向并联连接的第1复合元件,/n在一个所述第1复合元件处,经由第1中转电路图案而将2个所述半导体芯片反向并联连接,该第1中转电路图案配置于俯视观察时由2个所述半导体芯片所夹着的位置,/n在另一个所述第1复合元件处,直接将2个所述半导体芯片反向并联连接,而不经由所述第1中转电路图案。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610921780.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top