[发明专利]半导体芯片、半导体晶圆及制造方法在审
申请号: | 201610442936.9 | 申请日: | 2016-06-20 |
公开(公告)号: | CN106252288A | 公开(公告)日: | 2016-12-21 |
发明(设计)人: | 裴风丽 | 申请(专利权)人: | 苏州能讯高能半导体有限公司 |
主分类号: | H01L23/00 | 分类号: | H01L23/00 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人: | 唐维虎 |
地址: | 215300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种半导体芯片、半导体晶圆及制造方法,所述半导体芯片包括基底、基于基底一侧制作的半导体层、以及从基底另一侧开设的至少一应力槽。通过在基底的一侧开设至少一应力槽,在半导体芯片的制造过程中,芯片中产生的应力可以通过应力槽得到减小、缓冲或者释放,避免由于应力的变化导致芯片产生裂纹、崩边、翘曲、变形或者其他缺陷,减少碎片率,提高半导体芯片上器件或电路的良率,节约生产成本。 | ||
搜索关键词: | 半导体 芯片 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体芯片,其特征在于,所述半导体芯片包括基底、基于所述基底一侧制作的半导体层、以及从所述基底另一侧开设的至少一应力槽。
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