[发明专利]掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法有效

申请号：	201610354130.4	申请日：	2016-05-25
公开（公告）号：	CN105974729B	公开（公告）日：	2020-02-18
发明（设计）人：	张小华;刘少华;刘振宇;闫冬;崔富毅	申请（专利权）人：	京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号：	G03F1/66	分类号：	G03F1/66
代理公司：	北京市柳沈律师事务所 11105	代理人：	彭久云
地址：	100015 ***	国省代码：	北京;11
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摘要：	一种掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法。该掩膜版管理系统包括：掩膜版投入模块，其被配置来提供至少一个掩膜版组，每个所述掩膜版组包括一个卡匣和放置在所述卡匣内的多个掩膜版；掩膜版检测和处理模块，其被配置来检测所述掩膜版组中的多个掩膜版，并根据检测结果对需要处理的掩膜版进行对应的掩膜版处理；掩膜版分类模块，其被配置来将经过处理并合格的掩膜版重新调整到所述掩膜版所属的掩膜版组的卡匣中。该掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法可进行精细化的管控，有利于提高生产效率。
搜索关键词：	掩膜版管理系统以及使用方法
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【主权项】：

一种掩膜版管理系统，包括：掩膜版投入模块，其被配置来提供至少一个掩膜版组，每个所述掩膜版组包括一个卡匣和放置在所述卡匣内的多个掩膜版；掩膜版检测和处理模块，其被配置来检测所述掩膜版组中的多个掩膜版，并根据检测结果对需要处理的掩膜版进行对应的掩膜版处理；掩膜版分类模块，其被配置来将经过处理并合格的掩膜版重新调整到所述掩膜版所属的掩膜版组的卡匣中。

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摘要：一种基于微影用途的光罩保持容器，其供收纳限制一光罩，而该光罩保持容器包含有一第一视窗组及一第二视窗组，该第一、二视窗组分设于该光罩保持容器中相对光罩两个侧表面的侧面，且该第一、二视窗组分别具有一透明石英板，而该多个透明石英板的透光率大于或等于90％，又其中该第一、二视窗组的可视范围大于或等于该光罩的电路图案，以此，当该光罩收纳限制于该光罩保持容器后，能够于一微影设备内通过一微影光束由第一视窗组或二视窗组外部射入、且经该光罩后再由相对的第二视窗组或第一视窗组射出，使该微影光束投射通过光罩的电路图案转印至该工作载台的晶圆表面，且该光罩保持容器能够于一视觉检测设备内同步检知该光罩上、下表面的污染物。

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摘要：本实用新型公开了一种光罩盒定位系统，属于光罩盒技术领域，该光罩盒定位系统，包括光罩盒、定位装置和处理器，所述光罩盒的外壁上可拆卸地设置有定位装置，所述定位装置和所述处理器信号连接，所述处理器用于接收上述定位装置发出的信号。通过在光罩盒上设置一定位装置，定位装置能够发出信号到处理器，处理器将收到的信号转换为能够被操作人员读取的位置信息，便于人工找寻所需的光罩盒。

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摘要：本公开是关于一种光罩吸取器，所述光罩吸取器包括：承载平台、负压发生机构、以及至少两个吸盘。本公开通过滑动吸盘，使得两个工作面共面的吸盘分别移动至与目标器件上的目标位置对应的位置处，并通过负压发生机构产生传递至吸盘处的负压将目标器件吸附，使吸盘与目标器件紧密贴合，即可通过吸盘固定目标器件并通过移动吸盘实现目标器件的拿取和放置，减少人体与目标器件之间的直接接触，避免了操作者受操作空间限制而拿取目标器件的操作发生变形的可能，减小了操作者受伤的可能的同时减小了目标器件掉落受损的可能。

容器系统-202110183598.2
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摘要：本公开公开了一种容器系统，包括内基座，内基座被配置为接收工件，内基座包括对应于工件容纳区域的第一处理区域；围绕内基座的第一处理区域布置的第二处理区域；以及布置在第一处理区域和第二处理区域之间的边界区域处的工件支撑柱。

光罩盒及半导体设备-202110813124.1
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光罩存储装置-202110751802.6
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摘要：本发明实施例属于曝光机技术领域，具体涉及一种光罩存储装置。本发明实施例旨在解决相关技术中难以确定伸出的光罩的具体位置的技术问题。本发明实施例的光罩存储装置，包括机架和距离检测装置，机架上设置有存储空间，存储空间内用于存储多个光罩，多个光罩平行且间隔的设置；机架与水平面垂直的开口端上设置有连通至存储空间的开口；距离检测装置设置于开口端上，距离检测装置产生的检测信号与光罩垂直。本发明实施例所提供的光罩存储装置，能够确定伸出的光罩的具体位置，便于后续对伸出的光罩进行调整。

倍缩光罩载体及其操作的方法-202210282260.7
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申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G03F1/66
摘要：一种倍缩光罩载体及其操作的方法，倍缩光罩载体用以快速放电倍缩光罩上的剩余电荷，以防止倍缩光罩载体中的粒子吸附至或转移至倍缩光罩。倍缩光罩载体可用以在倍缩光罩载体的内底板与倍缩光罩之间提供减小的电容。电容的减小可减小用于放电倍缩光罩上剩余电荷的电阻电容(RC)时间常数，这可提高经由倍缩光罩载体的支撑销放电剩余电荷的放电速度。放电速度的提高可降低倍缩光罩载体中的静电力将倍缩光罩载体中的粒子吸附至倍缩光罩的可能性。这可减少转移至基板的使用倍缩光罩来图案化的图案缺陷，可提高半导体装置制造品质及产率。

倍缩光罩外壳及其处置方法-202210434807.0
发明人：许倍诚;连大成;李信昌 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G03F1/66
摘要：一种倍缩光罩外壳及其处置方法，倍缩光罩外壳包括：包括一第一表面的一基座；一盖，该盖包括一第二表面且安置于该基座上，其中该基座及该盖在之间形成一内部空间以包括一倍缩光罩；及一弹性体或凝胶材料层，该弹性体或凝胶材料层安置于该第一表面及该第二表面中的至少一者上，其中该弹性体或凝胶材料层安置于该基座与该盖之间且接触该基座或该盖。

倍缩光罩外壳、舱以及处置的方法-202210248016.9
发明人：廖啟宏;施柏铭 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-03-14 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G03F1/66
摘要：一种倍缩光罩外壳、舱以及处置的方法，倍缩光罩外壳包括：一基座，该基座包括一第一表面；一盖，该盖包括一第二表面且设置于该基座上，其中该基座及该盖在之间形成一内部空间，该内部空间包括一倍缩光罩；及设置于该第一表面上的一静电放电材料层，其中该静电放电材料减小该倍缩光罩上的静电电荷。

一种铬版光罩周转箱-202222255261.0
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申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本实用新型公开了一种铬版光罩周转箱，以解决铬版光罩在周转时容易被静电击伤的问题，该铬版光罩周转箱包括：箱体，所述箱体具有用于装取铬版光罩的装取槽；导电体，所述导电体设置在所述装取槽内以在装取铬版光罩时持续与铬版光罩接触，所述导电体具有位于所述箱体外的接地端。本实用新型通过导电体的设置，能够将产生的静电释放到地端，从而可以避免静电将铬版光罩击伤，继而能够保证铬版光罩的产品品质，提高铬版光罩的产品良率。

基于微影用途的光罩保持容器-202123212620.6
发明人：陈啓仲 -专利权人：陈啓仲
申请日： 2021-12-20 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G03F1/66
摘要：一种基于微影用途的光罩保持容器，其供收纳限制一光罩，而该光罩保持容器包含有一第一视窗组及一第二视窗组，该第一、二视窗组分设于该光罩保持容器中相对光罩两个侧表面的侧面，且该第一、二视窗组分别具有一透明石英板，而该多个透明石英板的透光率大于或等于90％，又其中该第一、二视窗组的可视范围大于或等于该光罩的电路图案，以此，当该光罩收纳限制于该光罩保持容器后，能够于一微影设备内通过一微影光束由第一视窗组或二视窗组外部射入、且经该光罩后再由相对的第二视窗组或第一视窗组射出，使该微影光束投射通过光罩的电路图案转印至该工作载台的晶圆表面，且该光罩保持容器能够于一视觉检测设备内同步检知该光罩上、下表面的污染物。

倍缩光罩容器及微影系统-202110569403.8
发明人：石志聪;简聪智;李宗泉;张皓翔 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F1/66
摘要：一种倍缩光罩容器及微影系统，倍缩光罩容器包含底座，包含第一表面；以及遮盖，包含第二表面，遮盖以第一表面朝向第二表面的方式耦合至底座。底座与遮盖形成包含倍缩光罩的内部空间。此倍缩光罩容器包含限制机构配置于内部空间中，以固定内部空间中的倍缩光罩与邻设于倍缩光罩的结构。此结构至少局部围绕倍缩光罩，且限制倍缩光罩容器的外部环境与内部空间之间的污染的通路。此结构包含阻障设于第一表面与第二表面上。在其他例子中，填料设置于阻障与第一表面及第二表面之间的间隙中。在其他例子中，此结构包含墙结构设于第一表面与第二表面上以及限制机构之间。

光刻机掩膜版盒的智能存取装置-202123120948.5
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本实用新型公开了光刻机掩膜版盒的智能存取装置，包括柜体，柜体分隔成上腔体、前腔体、后腔体和下腔体，前腔体内抽拉安装有收纳盒，后腔体内安装有过滤器，后腔体上设置有进气口，下腔体上设置有电控柜和抽气风机，抽气风机的进气口与后腔体联通，抽气风机的出气口与前腔体连通，前腔体与上腔体连通，上腔体上设置有排气口，前腔体内安装有顶推机构，顶推机构在前腔体内移动顶推任意一个收纳盒，柜体的前面板上设置有操作面板。该智能存取装置可以更好的储存掩膜版盒，不但可以减少灰尘的附着，而且方便准确的分类储存和取出，避免出错。

一种光罩盒-202122563200.6
发明人：顾佳灵 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本实用新型公开了一种光罩盒，包括底座和壳罩，光罩盒装载于承载台的位置精度为m毫米，底座传感器与壳罩传感器的直径分别为x和y毫米，底座传感器感知区的面积大于(m+x)2平方毫米，所述壳罩传感器感知区的面积大于(m+x)2平方毫米。本实用新型中，光罩盒的底座传感器感知区和壳罩传感器感知区的面积设定同时考虑了传感器自身的大小和光罩盒的位置精度两个因素，因此，将光罩盒搭载至承载台时，在其位置精度范围内，底座传感器感知区能够完全覆盖底座传感器，壳罩传感器感知区也能完全覆盖壳罩传感器，解决了设备误报而导致的设备宕机的问题，有效避免了因此而导致的产能损失和人力浪费。

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发明人：薛新民;莊家和;李承儒;黄政杰 -专利权人：家登精密工业股份有限公司
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摘要：本发明公开了一种光罩容器，用于容设极紫外光光罩。光罩容器包括外盒总成及内盒总成，外盒总成用以容置内盒总成。内盒总成包括基座以及上盖。基座具有上表面及周缘，上表面设有多个定位件以界定出光罩承载位置。周缘连接并且围绕上表面。上表面包括承载面、沟槽及第一接面。光罩设置于光罩承载位置，以承载在承载面上。沟槽具连续环状结构，底部低于承载面。承载面、沟槽及第一接面依序由上表面内侧朝周缘配置。上盖具有凹腔及第二接面。凹腔用于容纳光罩，第二接面与第一接面配合以形成密封状态。基座上利用连续环状结构的沟槽来捕获或容置微粒，降低微粒移动到承载面与光罩间的机会，减缓光罩被微粒污染的问题。

掩模盒盖固定夹及掩模盒-202011079687.4
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申请日： 2020-10-10 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本申请公开了一种掩模盒盖固定夹及掩模盒，掩模盒盖固定夹包括依次连接且一体成型的上壁板、中间壁板和下壁板，所述上壁板的外侧边与所述下壁板的外侧边之间形成所述掩模盒盖固定夹的开口，所述开口的尺寸小于所述中间壁板的高度。本申请实施例提供的掩模盒盖固定夹，用于固定掩模盒的顶盖板，固定更加牢固，顶盖板不能轻易脱离，从而避免了由于顶盖板脱离固定导致的前门板不能完全打开的问题，进一步避免了由于前门板不能完全打开导致的在通过掩模载卸臂从掩模盒中取出掩模时容易发生的前门板碰触掩模造成掩模损坏的问题，大大降低了在取掩模时掩模的破损率。

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摘要：本发明揭露一种具有收容环境检测的基板收容装置，具有可拆卸地连接于一外盒的一检测装置，所述检测装置包含一感测部，其具有一感测端、一腔体及一感测器，所述感测部可拆卸地连接于所述外盒，使所述感测端暴露于所述外盒内侧的一容置空间，所述腔体延伸于所述外盒的一外侧和所述容置空间之间并容置所述感测器，所述腔体经由所述感测端通信连接所述外盒的容置空间，藉此让所述感测器读取关于所述容置空间的信息。

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摘要：本发明提供了一种掩膜版，涉及加工工艺技术领域。其中，所述掩膜版包括掩膜版盒，以及嵌套在掩膜版盒中的准直透镜组合板。其中，掩膜版盒包括对盒设置的掩膜图案板和第一准直透镜板，第一准直透镜板上的光线准直区域与掩膜图案板上的透光区域位置对应；准直透镜组合板上的光线准直区域可以大于掩膜图案板上的透光区域。在本发明实施例中，掩膜图案板上的透光区域与特定薄膜晶体管的图案对应，准直透镜组合板上的光线准直区域大于掩膜图案板上的透光区域，从而准直透镜组合板可以与不同掩膜图案的掩膜版盒嵌套组合，形成不同的掩膜版，进而能够对不同图案的薄膜晶体管的a‑Si进行区域化激光退火处理，提高了区域化激光退火掩膜版的通用性。

应用于掩模版标准盒入库系统中的防呆装置-202122793368.6
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申请日： 2021-11-15 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本实用新型公开了一种应用于掩模版标准盒入库系统中的防呆装置。包括：本体，为倒F型结构，倒F型结构的下部为卡口，卡口为C字型或匚字型，卡口的上部形成有贯穿其的第一螺孔，倒F型结构的上部形成有限位孔和第二螺孔；限位杆，其插入限位孔中，第二螺孔中螺纹连接有第二螺丝，第二螺丝与限位杆接触且用于固定限位杆；其中，限位孔的长与第二螺孔的长垂直，第二螺孔与限位孔连通，第一螺孔用于螺纹连接第一螺丝使第一螺丝将防呆装置固定在掩模版标准盒入库系统的传送路径上。本实用新型通过提供一种固定在掩模版标准盒入库系统的传送路径上的防呆装置，从而能够通过防呆装置的限位杆限制安装有智能标签的高度较高的掩模版标准盒的通过，防止高度较高的掩模版标准盒和棚户碰撞，提高了系统的安全性。

玻璃光罩保护盒-202122534471.9
发明人：王明波 -专利权人：广州仕元光电有限公司
申请日： 2021-10-20 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本实用新型公开了一种玻璃光罩保护盒，包括顶壳、底壳，顶壳与底壳围合形成用于容纳玻璃光罩的腔体；设置于顶壳朝向底壳的一侧面上的多个第一定位凸起，且多个第一定位凸起间隔设置；设置于底壳朝向顶壳的一侧面上的多个第二定位凸起，且多个第二定位凸起间隔设置，第二定位凸起、第一定位凸起用于定位玻璃光罩；在每一个第一定位凸起上设置有一个第一缓冲件，每一个第二定位凸起上设置有一个第二缓冲件。本实用新型实施例公开的玻璃光罩保护盒，可以实现对玻璃光罩在运输、使用以及储存过程中的防污染、防破损保护。

掩膜版的存储系统、查询系统、存储方法及计算机设备-202010776756.0
发明人：梁学玉 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2020-08-05 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本申请涉及一种掩膜版的存储系统、查询系统、存储方法及计算机设备和存储介质。所述存储系统，包括承载装置，承载装置包括用于放置掩膜版的掩膜版放置区；存储装置，存储有预设坐标，及各个承载装置在预设坐标中的位置信息；检测装置，与承载装置一一对应设置，用于检测承载装置，在掩膜版放置区内放置有掩膜版时，发送第一检测信号；在承载装置上的掩膜版放置区之外放置有掩膜版时，发送第二检测信号；检测装置与存储装置连接，存储装置还用于在接收到第一检测信号或第二检测信号时，存储掩膜版在预设坐标中的掩膜版位置信息；报警装置，与检测装置一一对应连接，用于在接收到第二检测信号时，进行报警显示，避免了掩膜版跌落损坏的风险。

一种用于光罩的防破损装置及光罩传送机台-202121460845.0
发明人：虞子开 -专利权人：和舰芯片制造（苏州）股份有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本实用新型涉及一种用于光罩的防破损装置，防破损装置包括：第一阻挡板，第一阻挡板为双层板，第一阻挡板包括设置在上层的缓冲板以及设置在下层的支撑板；第一阻挡板的一侧边设置第一开口；第二阻挡板，第二阻挡板为双层板，第二阻挡板包括设置在上层的缓冲板以及设置在下层的支撑板；第二阻挡板的一侧边设置第二开口；第一阻挡板和第二阻挡板可拆卸地连接成一体，以形成阻挡光罩掉落的平面；其中，第一开口和第二开口在第一阻挡板和第二阻挡板连接成一体时组成一整体开口，机械臂穿过整体开口进行安装。本实用新型的防破损装置防止了光罩磕碰带来的损伤，不会轻易损伤光罩。

具有导位构件的光掩模盒-202010849894.7
发明人：庄家和;温星闵;李怡萱;薛新民;邱铭乾 -专利权人：家登精密工业股份有限公司
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本发明公开一种具有导位构件的光掩模盒，包括底座、上盖及多个导位构件，上盖盖合于底座而形成轮廓呈矩形的盒体，盒体具有容置光掩模的存放空间，导位构件沿盖合方向分别设置于上盖的至少二个侧边上或底座的至少二个侧边上，各导位构件包括连接部、导正部及导引斜面部，连接部连接上盖的侧边，导正部的一端连接连接部且沿盖合方向延伸，导正部相反的一端连接导引斜面部，导引斜面部具有朝外部空间延伸的倾斜面。经由本发明的具有导位构件的光掩模盒解决先前技术中光掩模盒的误差问题，使上盖及底座能正确盖合。

遮光保护盒及遮光保护盒组件-202121822375.8
发明人：张云雪;宋丹;何玉国;黄安琳;张钱依 -专利权人：宁波市知行光学科技有限公司
申请日： 2021-08-05 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： G03F1/66
摘要：本申请公开了一种遮光保护盒及遮光保护盒组件，本申请中的遮光保护盒包括第一盖板及第二盖板；其中，第一盖板上设有第一盲孔，第一盲孔具有第一内底面及第一连接面，第一连接面与第一内底面连接；第二盖板与第一盖板连接，第二盖板上设有第二盲孔；第一连接面与第一内底面之间的角度大于90°且小于180°，第一内底面、第一连接面和第二盲孔的内表面形成容纳腔。本申请中的遮光保护盒可对匀胶铬版进行遮光保存，避免光刻胶在光照条件下失效；同时本申请中的遮光保护盒的内表面不与匀胶铬版中的光刻胶层相接触，避免胶层受到污染，有效保护涂胶表面。

专利分类

G 物理

G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备

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[发明专利]掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法有效

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