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[实用新型]一种LED干法刻蚀机排气装置-CN202321330993.X有效
发明人：刘德林;徐吉红;段良飞;胡瑶;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B01D53/86 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种LED干法刻蚀机排气装置，包括工作台、加热除湿机构、过滤机构和净化机构；加热除湿机构包括长形盒、加热组件和送气组件，长形盒上设有第一进气口，气体经第一进气口和送气组件输送至过滤机构；过滤机构的一端与长形盒连接，其另一端与净化机构连接；净化机构包括净化盒体、净化组件和排气组件，净化盒体通过净化组件隔出至少两个独立空间，净化盒体上设有第二进气口，第二进气口和排气组件分别与不同独立空间连通。通过本申请，不仅实现了对气体的过滤和净化，以保证气体无害后排至外界大气中，避免对空气造成污染，还能够对装置进行加热除湿，改善该装置中各箱体内部容易发霉的问题，提高了装置的实用性。
一种 led 刻蚀排气装置

[实用新型]一种卡塞夹取总成-CN202321348420.X有效
发明人：杨伟峰;曾宪瑞;段良飞;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B65G47/90 文献下载
摘要：本实用新型提供一种卡塞夹取总成，该卡塞夹取总成包括两平行设置的夹爪、和设置在所述夹爪上方与所述夹爪顶部连接的固定块，所述固定块用于与机械臂连接，所述夹爪包括平行设置的第一竖管、第二竖管以及连接所述第一竖管和所述第二竖管的横管，所述横管用于支撑所述卡塞两侧的翻边，所述第一竖管的长度大于所述第二竖管，所述横管靠近所述第一竖管一端向下凹陷与所述第一竖管组成卡口，所述卡口与卡塞上的卡块适配。本实用新型中的卡塞夹取总成，解决了现有技术中的夹爪在抓取卡塞时无法限制卡塞的前后移动以及会挤压卡塞造成卡塞变形的问题。
一种卡塞夹取总成

[实用新型]一种用于提高晶圆清洗良率的清洗治具-CN202321202767.3有效
发明人：饶英;段良飞;刘剑荣;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于提高晶圆清洗良率的清洗治具，其在主体框架的腰部设置有承载平台，该承载平台上水平设置有限位杆，以在主体框架的侧壁与限位杆之间形成一承载空间，限位杆朝向主体框架的第一侧壁的面结构为斜面，且该斜面的底边与第一侧壁相距第一距离，顶边与第一侧壁相距第二距离，第一距离小于所述第二距离，置于该放置空间中的晶舟的底面尺寸大于第一距离，小于第二距离。本实用新型提供的用于提高晶圆清洗良率的清洗治具通过限位杆的斜面设计，简单有效的实现了置于承载空间的晶舟的倾斜置位，可使置于晶舟中的晶圆倾斜置位，降低了晶圆的置位状态受清洗治具的移动而变化的风险，提高了清洗良率。
一种用于提高清洗

[实用新型]一种真空源机械臂-CN202321173055.3有效
发明人：黎望望;徐吉红;段良飞;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-05-16 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B25J15/06 文献下载
摘要：本实用新型提供一种真空源机械臂，该真空源机械臂包括机械臂前叉和设置在所述机械臂前叉上的压力传感器，所述机械臂前叉一端设有气孔，另一端设有与所述气孔连通的真空源入口，所述真空源入口用于连接抽真空装置，以使所述气孔产生吸力吸附晶片，所述机械臂前叉设有所述气孔一端还设有安装槽用于安装所述压力传感器，所述压力传感器的厚度大于所述安装槽的深度。本实用新型中的真空源机械臂，解决了现有技术中的机械臂在没有吸附到晶片时，仍会进行晶片的取放操作，导致晶片取放生产流程异常的问题。
一种真空机械

[实用新型]一种便于机械开合的光罩版盒-CN202320965286.1有效
发明人：江晓军;郭玉峰;段良飞;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：本实用新型提供一种便于机械开合的光罩版盒，其包括可盖设于盒衬上的盒盖，在盒盖的侧壁外设置有弹簧卡扣，在盒衬侧边的外延板上开设有卡口，在盒盖盖设于盒衬上时，弹簧卡扣可翻转卡入卡口中，同时弹簧卡扣下端的翻边延伸至外延板的板面下方，弹簧卡扣和卡口的匹配实现水平方向上的固定，以翻边的外延板的板面实现竖直方向上的固定，合盖结构稳固，开盖时，可以光刻机台中的机械勾爪勾住弹簧卡扣下端的翻边即可将弹簧卡扣翻起，接触锁定。本实用新型提供的光罩版盒的锁定结构开合方便，其开合便于在光刻机台内由机械实现，降低了放置于光罩版盒中的光罩版接触外部环境中的脏污的可能性，提高了生产的半导体器件的良品率。
一种便于机械光罩版盒

[实用新型]一种布拉格反射镜蒸镀治具-CN202321166244.8有效
发明人：傅焱敏;段良飞;胡瑶;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型提供一种布拉格反射镜蒸镀治具，包括卡环以及镀锅，卡环包括卡环本体以及设于卡环本体上的松紧装置，卡环本体包括延长部以及接触部，延长部用于放置在镀锅上，松紧装置包括弹性部、推动部以及插接杆，弹性部与推动部固定连接，推动部与插接杆固定连接，在镀锅上设有与插接杆对应的插接槽，在镀锅内还设有紧固组件，紧固组件包括紧固块以及与紧固块连接的旋转部，旋转部位于紧固块的非轴心处，旋转部用于推动紧固块使其以紧固块与旋转部的连接处为轴旋转，以使紧固块面积大的一侧将插接杆挤压至插接槽的侧壁中，本实用新型中的布拉格反射镜蒸镀治具，将插接杆插入插接槽中，再通过紧固块挤压插接杆、以实现对卡环的固定。
一种布拉格反射镜蒸镀治具

[实用新型]一种芯片QDR清洗槽-CN202321330980.2有效
发明人：李坤;段良飞;曾宪瑞;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本实用新型提供一种芯片QDR清洗槽，包括槽体、过滤底板、氮气装置以及喷淋装置，槽体用于盛放DI水，过滤底板上贯穿设置有多个过滤孔，过滤孔用于过滤LED芯片因意外产生的碎片，氮气装置包括出气部、进气部和氮气输送部，氮气输送部用于提供氮气，进气部与氮气输送部连接，过滤底板和出气部均位于槽体内部、且过滤底板罩设于出气部之上，出气部上设有多个出气孔，氮气通过出气孔和过滤孔，以使DI水鼓泡，喷淋装置包括第一进水管和喷淋部，喷淋部设于第一进水管上、且喷淋部朝向槽体内部设置，本实用新型中的芯片QDR清洗槽，通过过滤底板过滤晶圆异常碎片的同时，还与氮气装置配合对晶圆进行强力清洗，最后通过喷淋装置去除残留药液，提高清洗效果。
一种芯片 qdr 清洗

[实用新型]一种晶圆装载治具-CN202320959528.6有效
发明人：曾宪瑞;罗刚;段良飞;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆装载治具，包括治具主体，治具主体上设有用于存放晶圆的容腔槽，容腔槽采用实心槽底板的方式，治具移动时晶圆不会产生偏移，避免碎片的产生，加热板升起与治具接触时，晶圆水平无倾斜角度，受热均匀，当夹爪把治具拉取到位置后，加热顶板向上移动通过通孔将晶圆吸附住，接触后开始传导热量，不与晶圆直接接触，由于容腔槽限制了晶圆移动，作业员在作业过程中只要把晶圆放入治具即可，缩短了上料时间提高了生产效率。
一种装载

[发明专利]一种晶圆涂胶装置及控制方法-CN202310732223.6在审
发明人：文国昇;郭玉峰;段良飞;董国庆;胡瑶;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-06-20 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆涂胶装置及控制方法，包括固定台、分别设置在固定台上用于容置晶圆的涂胶组件、设置在涂胶组件一侧用于对晶圆表面滴胶的上胶组件以及设置在涂胶组件另一侧的洗边组件，洗边组件可活动至晶圆边缘处，在连通稀释剂后抽取并对晶圆边缘光刻胶进行冲洗，提高晶圆边缘处的洁净程度使其边缘无光刻胶残留，解决了目前晶圆在涂胶完成后，无洗边功能，直接进入到烘烤热盘进行烘烤，造成晶圆外圈无法处理，从而影响片源涂胶后的整体均匀性的问题。
一种涂胶装置控制方法

[实用新型]一种DBR镀膜治具-CN202321131744.8有效
发明人：傅焱敏;段良飞;胡瑶;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-05-11 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型提供一种DBR镀膜治具，包括卡环以及镀锅，卡环包括卡环本体以及限位装置，卡环本体包括延伸部以及设于延伸部下方的接触部，延伸部的外径大于接触部的外径，延伸部用于架设在镀锅的上表面，在延伸部上贯穿设置有两第一通孔，在镀锅相对于两第一通孔处的位置贯穿设置有两第二通孔，限位装置包括在第一通孔内弹性移动的弹性杆以及与弹性杆垂直的连接杆，连接杆靠近弹性杆回弹的一侧设有第一抵靠部，弹性杆的回弹，以使第一抵靠部挤压第二通孔的侧壁，两第一通孔中的两弹性杆的回弹方向一致，本实用新型中的DBR镀膜治具，将卡环的上沿边拉长，并在其中设置可回弹的弹性杆，当弹性杆复位时，通过抵靠部挤压镀锅内的侧壁，对卡环实现固定。
一种 dbr 镀膜

[实用新型]一种料盒夹爪检测装置-CN202321156824.9有效
发明人：黄建华;段良飞;曾宪瑞;胡瑶;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G01V9/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种料盒夹爪检测装置，包括驱动杆、夹爪组件和检测机构；当驱动杆带动夹爪组件夹紧料盒时，连接杆随之向外扩移动，连接杆移动带动转轴转动，转轴转动带动感应片去触发微动行程开关，微动行程开关将有料盒信号传送至控制器，判定夹爪组件上有料盒；当夹爪组件上无料盒时，连接杆不动，无信号传递至控制器，判定夹爪组件上无料盒，在检测盒上连接有气管，向气管内通入中性气体，吹走检测盒内的酸性气体，避免误感应报警，减少生产线的异常情况发生，提升机台产能。
一种料盒夹爪检测装置

[实用新型]一种承载治具-CN202320856258.6有效
发明人： 段良飞;刘剑荣;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-04-17 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种承载治具，涉及LED加工设备技术领域，用于对承载晶圆片的卡塞进行支撑，卡塞上设有多个用于插接晶圆片的插槽，承载治具包括支架和设于支架上的支撑组件，支撑组件包括至少两个相对设置的支杆，以及设于每个支杆上至少一组限位件，每组限位件中任意相邻两个限位件之间形成有与卡塞的底部相对的卡槽，卡槽用于卡接卡塞，其中，相对两个支杆中的一个支杆相对于支架的高度高于另一个支杆相对于支架的高度，通过将卡塞的底部卡接于卡槽内，使卡塞相对于支架倾斜，以使晶圆片放置于插槽内时其有效区和插槽的内壁之间形成间隔。通过该设置，使得后期在对晶圆片进行清洗时，能够对晶圆片的有效区进行全面清洗。
一种承载

[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜太阳电池无镉缓冲层的原子层沉积制备方法-CN201510444958.4有效
发明人：杨雯;赵恒利;杨培志;段良飞;李学铭 -专利权人：云南师范大学
申请日： 2015-07-27 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01L31/0296 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜铟镓硒薄膜太阳电池无镉缓冲层的沉积方法，该方法的特征是采用二乙基锌（DEZn）、双环戊二茂镁（MgCP2）、H2S作为Zn、Mg和S的前躯体源进行原子层沉积，得到Zn1‑xMgxS缓冲层材料。此方法具有沉积速度稳定、薄膜致密性好、性能优异等特点。Zn1‑xMgxS作为CIGS薄膜太阳电池的一种新型缓冲层材料，具有无镉、环境友好的特点；通过调节ZnS的Mg掺杂比例，可得到比ZnS更合适的晶格参数，降低了其与吸收层CIGS界面间的失配度，改善了界面质量；随着Mg含量x的变化，还能调节Zn1‑xMgxS薄膜的带隙，弥补硫化锌带隙偏小的缺点；Zn1‑xMgxS的带隙增加还可增强紫外区的透光率，进而提高铜铟镓硒薄膜太阳电池的光电转换效率；采用原子层沉积（ALD）制备的薄膜由于致密性好，还可抑制由于薄膜致密性不理想产生的微针孔而导致的电池内部短路现象，改善电池的性能。
一种铜铟镓硒薄膜太阳电池缓冲原子沉积制备方法

[实用新型]一种抛动装置及清洗机-CN202222874745.3有效
发明人：饶英;段良飞;刘剑荣;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： B08B3/10 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种抛动装置及清洗机，涉及半导体生产设备技术领域，该抛动装置包括：底座，设于底座上的抛动电机，与抛动电机连接的旋转机构，以及与旋转组件连接的抛动支架；旋转机构包括旋转组件以及设于旋转组件端部的连杆，连杆连接抛动支架，旋转组件包括设于抛动电机输出端的传动轴，以及与传动轴连接的转动块，连杆连接转动块远离圆心的一端；通过抛动电机驱动传动轴旋转，以使转动块旋转带动连杆往复移动，从而使抛动支架上下往复运动，本实用新型能够解决现有技术中连杆直接连接洗篮，在偏心轮的带动下，造成洗篮的运动轨迹不规则，抛动不均匀的技术问题。
一种装置清洗

[实用新型]一种镀锅及蒸镀机-CN202223255836.5有效
发明人：傅焱敏;段良飞;董国庆;文国昇;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种镀锅及蒸镀机，该镀锅包括镀锅本体和设于所述镀锅本体上的多个片源孔洞，其特征在于，还包括卡环和限位工件，所述卡环内部中空形成用于放置晶圆的放置腔体，所述卡环与所述片源孔洞活动连接，所述卡环上设置有挡块，所述挡块覆盖部分所述放置腔体，以限制所述晶圆，所述限位工件用于对所述卡环进行限位，以使所述卡环与所述片源孔洞连接。通过本申请，能够避免在蒸镀过程中，镀锅进行公转时晶圆易被甩飞的问题，有利于降低物料损失。
一种蒸镀机

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