[发明专利]蓝宝石图形衬底以及制作蓝宝石图形衬底的掩膜版和方法在审
| 申请号： | 201610284240.8 | 申请日： | 2016-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN107342349A | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | 晏小平;李成立;顾威威;王武 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/20 | 分类号： | H01L33/20;H01L33/22;G03F1/00;H01L21/027;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供的蓝宝石图形衬底以及制作蓝宝石图形衬底的掩膜版和制作方法，在衬底上周期性排列的结构图形的外部围设封闭性隔离墙，每相邻的两个结构图形之间共用一堵隔离墙，与现有技术中未设立围墙的蓝宝石图形衬底相比，本发明具有更多的反射面，用于提供外延生长的面积更大，有利于降低衬底晶体中的位错密度，使得更好地释放由于前道制作工艺而在晶体内部产生的适配应力，进而降低缺陷密度，提高LED芯片的发光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 蓝宝石 图形 衬底 以及 制作 掩膜版 方法 | ||
【主权项】：
一种蓝宝石图形衬底，所述衬底上形成有周期性排列的结构图形，其特征在于，在所述结构图形的外部围设有封闭性隔离墙，每相邻的两个结构图形之间共用一堵隔离墙。
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