[发明专利]具有嵌入式EFS3以及FINFET器件的结构有效
| 申请号: | 201610057680.X | 申请日: | 2016-01-28 |
| 公开(公告)号: | CN106298769B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
| 发明(设计)人: | 刘铭棋;吴常明;刘世昌;张宇行;曾元泰 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L27/04;H01L21/82 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明实施例涉及具有FinFET器件和嵌入式闪存存储器器件的集成芯片及其形成方法。在一些实施例中,集成芯片具有逻辑区和与逻辑区横向隔开的存储区。逻辑区具有从半导体衬底向外突出的多个第一半导体材料的鳍。栅电极布置在多个第一半导体材料的鳍上方。存储区具有从半导体衬底向外延伸的多个第二半导体材料的鳍。嵌入式闪存存储器单元布置在多个第二半导体材料的鳍上。由于产生的集成芯片结构包括FinFET器件以及嵌入式闪存存储器器件二者,因此它提供良好性能。本发明实施例涉及具有嵌入式EFS3以及FINFET器件的结构。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 嵌入式 efs3 以及 finfet 器件 结构 | ||
【主权项】:
1.一种集成芯片,包括:逻辑区,包括从半导体衬底向外突出的多个第一半导体材料的鳍;栅电极,横跨所述多个第一半导体材料的鳍;嵌入式闪存存储器区,沿着第一方向与所述逻辑区横向隔开,并且包括从所述半导体衬底向外突出的多个第二半导体材料的鳍;以及多个嵌入式闪存存储器单元,布置在所述多个第二半导体材料的鳍上,其中,所述多个第一半导体材料的鳍在所述第一方向上具有第一宽度并且所述多个第二半导体材料的鳍在所述第一方向上具有大于所述第一宽度的第二宽度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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