[发明专利]全自动半导体封装微尘清洗设备有效
申请号: | 201310440029.7 | 申请日: | 2013-09-24 |
公开(公告)号: | CN103456605A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 高辉武;曾志家 | 申请(专利权)人: | 深圳市凯尔迪光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/8238 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 李新林 |
地址: | 518000 广东省深圳市光明新区公明办事处田*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种全自动半导体封装微尘清洗设备,将待清洗的半导体器件对应固定在叶轮盘上,且在叶轮盘的上下两侧各设置有多个二流体喷淋头,将压缩空气和清洗液对应以雾化去离子水分子的形式喷出,当主轴驱动机构带动叶轮盘旋转时,通过喷出的雾化去离子水分子可实现对半导体器件的清洗;在清洗后,通过加热板和空气过滤机构对腔体中的水雾进行抽干和干燥处理,从而实现对半导体器件的干燥。与现有技术相比,本发明可适应电子行业高精度元器件的清洗要求,其具有清洗质量稳定,效果好的优点,且在清洗完成之后能快速离心甩干,可以大大提高生产效率及烘干效果。 | ||
搜索关键词: | 全自动 半导体 封装 微尘 清洗 设备 | ||
【主权项】:
一种全自动半导体封装微尘清洗设备,其特征在于,包括:壳体,所述壳体由下壳体(100)和设置在下壳体(100)上方的上壳体(200)构成;所述下壳体(100)中安装有电控箱(101)、喷淋泵(103)和主轴驱动机构(300),所述主轴驱动机构(300)包括有电机(301)、电机固定座(302)、主轴(303)、主轴固定座(305)和叶轮盘(306),所述电机(301)固定安装在电机固定座(302)中,主轴(303)下端通过电机固定座(302)与电机(301)连接,上端穿过主轴固定座(305)与叶轮盘(306)固定连接;所述叶轮盘(306)上设置有多个固定板(307),所述固定板(307)中设置有多个用于固定待清洗半导体的卡孔(308);所述上壳体(200)内设置有一腔体(201),所述腔体(201)中设置有一防护罩(202),所述叶轮盘(306)安装在防护罩(202)中,且可通过电机(301)带动主轴(303)转动在防护罩(202)内旋转;在腔体(201)内的叶轮盘(306)上下两侧各安装有一个可旋转的喷淋管(500),所述喷淋管(500)上设置有多个二流体喷淋头(400),所述二流体喷淋头(400)包括有进气端(401)、进水端(402)和喷嘴(403),所述进气端(401)通过喷淋管(500)与外部空压机连接,所述进水端(402)通过进水管与喷淋泵(103)连接,由进气端(401)进入的压缩空气和由进水端(402)进入的清洗液通过喷嘴(403)后形成去离子雾化水分子,并由喷嘴(403)的雾化出口端(404)分别向叶轮盘(306)的上下两面进行喷淋,对固定在卡孔(308)中的待清洗半导体进行清洗。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市凯尔迪光电科技有限公司,未经深圳市凯尔迪光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310440029.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:MOS管及其形成方法
- 下一篇:一种用于插拔灯管的开槽机
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造