[发明专利]全自动半导体封装微尘清洗设备有效
申请号: | 201310440029.7 | 申请日: | 2013-09-24 |
公开(公告)号: | CN103456605A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 高辉武;曾志家 | 申请(专利权)人: | 深圳市凯尔迪光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/8238 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 李新林 |
地址: | 518000 广东省深圳市光明新区公明办事处田*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 全自动 半导体 封装 微尘 清洗 设备 | ||
1.一种全自动半导体封装微尘清洗设备,其特征在于,包括:
壳体,所述壳体由下壳体(100)和设置在下壳体(100)上方的上壳体(200)构成;
所述下壳体(100)中安装有电控箱(101)、喷淋泵(103)和主轴驱动机构(300),所述主轴驱动机构(300)包括有电机(301)、电机固定座(302)、主轴(303)、主轴固定座(305)和叶轮盘(306),所述电机(301)固定安装在电机固定座(302)中,主轴(303)下端通过电机固定座(302)与电机(301)连接,上端穿过主轴固定座(305)与叶轮盘(306)固定连接;所述叶轮盘(306)上设置有多个固定板(307),所述固定板(307)中设置有多个用于固定待清洗半导体的卡孔(308);
所述上壳体(200)内设置有一腔体(201),所述腔体(201)中设置有一防护罩(202),所述叶轮盘(306)安装在防护罩(202)中,且可通过电机(301)带动主轴(303)转动在防护罩(202)内旋转;在腔体(201)内的叶轮盘(306)上下两侧各安装有一个可旋转的喷淋管(500),所述喷淋管(500)上设置有多个二流体喷淋头(400),所述二流体喷淋头(400)包括有进气端(401)、进水端(402)和喷嘴(403),所述进气端(401)通过喷淋管(500)与外部空压机连接,所述进水端(402)通过进水管与喷淋泵(103)连接,由进气端(401)进入的压缩空气和由进水端(402)进入的清洗液通过喷嘴(403)后形成去离子雾化水分子,并由喷嘴(403)的雾化出口端(404)分别向叶轮盘(306)的上下两面进行喷淋,对固定在卡孔(308)中的待清洗半导体进行清洗。
2.根据权利要求1所述的全自动半导体封装微尘清洗设备,其特征在于,所述上壳体(200)的侧面还设置有一用于对清洗后半导体进行干燥处理的加热板(900)。
3.根据权利要求2所述的全自动半导体封装微尘清洗设备,其特征在于,所述上壳体(200)的上方还设置有一空气过滤机构(600),所述空气过滤机构(600)包括风扇(601)、过滤层(602)和过滤芯(603);所述上壳体(200)的侧面还设置有一排气口(800),通过所述空气过滤机构(600)和所述排气口(800)可对清洗后半导体进行抽干处理。
4.根据权利要求1所述的全自动半导体封装微尘清洗设备,其特征在于,所述喷淋管(500)通过一旋转机构安装在腔体(201)的内侧壁,在对待清洗半导体清洗之前,喷淋管(500)对应旋转至叶轮盘(306)的上下两侧;在待清洗半导体清洗完成之后,喷淋管(500)对应旋转回腔体(201)的内侧壁。
5.根据权利要求1所述的全自动半导体封装微尘清洗设备,其特征在于,所述防护罩(202)中还设置有一延伸到上壳体(200)外部的废液出口(203),用于将喷淋清洗后的废液排出。
6.根据权利要求1所述的全自动半导体封装微尘清洗设备,其特征在于,所述下壳体(100)中还安装有一气缸(102),所述气缸(102)上端对应与安装在腔体(201)窗口处的玻璃门连接,用于控制所述玻璃门的关闭或开启。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造