[发明专利]双向异质结化合物半导体保护装置及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201310436970.1 申请日: 2013-09-24
公开(公告)号: CN103681658B 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: J·A·塞尔瑟多;S·帕萨萨拉希;张书云 申请(专利权)人: 美国亚德诺半导体公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/778;H01L21/82;H01L21/335
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 冯玉清
地址: 美国马萨*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及双向异质结化合物半导体保护装置及其形成方法。包括多栅高电子迁移率晶体管(HEMT)、正向传导控制块和反向传导控制块的保护电路被布置在第一终端和第二终端之间。多栅HEMT包括明确的漏极/源极、第一耗尽模式(D‑模式)栅极、第一增强模式(E‑模式)栅极、第二E‑模式栅极、第二D‑模式栅极以及明确的源极/漏极。漏极/源极和第一D‑模式栅极被连接至第一终端和源极/漏极,第二D‑模式栅极被连接至第二终端。正向传导控制块在第一和第二终端之间的电压差大于正向传导触发电压时使得第二E‑模式栅极导通,反向传导控制块在电压差比反向传导触发电压更负时使得第一E‑模式栅极导通。
搜索关键词: 双向 异质结 化合物 半导体 保护装置 及其 形成 方法
【主权项】:
一种化合物半导体双向保护装置,包括:多栅高电子迁移率晶体管,包括漏极/源极、源极/漏极、第一耗尽模式栅极、第二耗尽模式栅极、第一增强模式栅极以及第二增强模式栅极,其中第一增强模式栅极布置在第一和第二耗尽模式栅极之间,其中第二增强模式栅极布置在第一增强模式栅极和第二耗尽模式栅极之间,其中漏极/源极和第一耗尽模式栅极电连接至第一终端,而且其中源极/漏极和第二耗尽模式栅极电连接至第二终端;电连接在第一终端和第二终端之间的配置成控制第二增强模式栅极的栅极电压的正向传导控制块,其中正向传导控制块被配置成,在第一和第二终端之间的电压差大于正向传导触发电压时使得第二增强模式栅极导通、并且反之根据第二终端的电压来对第二增强模式栅极进行偏置;以及电连接在第一终端和第二终端之间的配置成控制第一增强模式栅极的栅极电压的反向传导控制块,其中反向传导控制块被配置成,在所述电压差小于反向传导触发电压时使得第一增强模式栅极导通、并且反之根据第一终端的电压来对第一增强模式栅极进行偏置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美国亚德诺半导体公司,未经美国亚德诺半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310436970.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top