[发明专利]晶片封装体及其形成方法、半导体结构的形成方法有效
申请号: | 201310247527.X | 申请日: | 2013-06-20 |
公开(公告)号: | CN103515334A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 林柏伸;刘沧宇;何彦仕;何志伟;陈世锦 | 申请(专利权)人: | 精材科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L21/56;H01L23/488;H01L21/60;H01L25/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 中国台湾桃园县中*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种晶片封装体及其形成方法、半导体结构的形成方法,该晶片封装体包括:一晶片,包括:一半导体基底,具有一第一表面;一元件区,形成于半导体基底之中;以及多个微透镜,设置于第一表面上,且位于元件区上;一覆盖基板,设置于晶片上,覆盖基板系为一透光基板;一间隔层,设置于晶片与覆盖基板之间,其中间隔层、晶片、及覆盖基板共同于元件区上围出一空腔;以及至少一主透镜,设置于覆盖基板上,且位于空腔中,主透镜的宽度大于各微透镜的宽度。本发明所提供的晶片封装技术可缩减晶片封装体的尺寸、可大量生产晶片封装体、可确保晶片封装体的品质、及/或可降低制程成本与时间。 | ||
搜索关键词: | 晶片 封装 及其 形成 方法 半导体 结构 | ||
【主权项】:
一种晶片封装体,其特征在于,包括:一晶片,包括:一半导体基底,具有一第一表面及一第二表面;一元件区,形成于该半导体基底之中;一介电层,设置于该第一表面上;以及一导电垫结构,设置于该介电层之中,且电性连接该元件区;一覆盖基板,设置于该晶片上;以及一间隔层,设置于该晶片与该覆盖基板之间,其中该间隔层、该晶片、及该覆盖基板共同于该元件区上围出一空腔,且该间隔层直接接触该晶片,而无任何粘着胶设置于该晶片与该间隔层之间。
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