[发明专利]半导体装置制造方法和电子装置制造方法有效

专利信息
申请号: 201310048269.2 申请日: 2013-02-06
公开(公告)号: CN103258752A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 石月义克;佐佐木伸也;谷元昭 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L21/50
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 朱胜;穆云丽
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了一种半导体装置制造方法和电子装置制造方法,该半导体装置制造方法包括:将半导体元件放置在粘着层上,该粘着层放置在具有第一通孔的支撑体上;将部件放置在包括与第一通孔对应的部分的区域中,该部分在放置在支撑体上的粘着层上;通过在已放置了半导体元件和部件的粘着层上形成树脂层来在粘着层上形成基板,该基板包括半导体元件、部件和树脂层;以及通过经由第一通孔按压部件而从粘着层分离基板。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法 电子
【主权项】:
一种制造半导体装置的方法,所述方法包括:将半导体元件放置在粘着层上,所述粘着层放置在具有第一通孔的支撑体上;将部件放置在包括与所述第一通孔对应的部分的区域中,所述部分在放置在所述支撑体上的粘着层上;通过在放置了所述半导体元件和所述部件的所述粘着层上形成树脂层而在所述粘着层上形成基板,所述基板包括所述半导体元件、所述部件和所述树脂层;以及通过经由所述第一通孔按压所述部件而从所述粘着层分离所述基板。
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